コバルトロータリーターゲット Coターゲット 商品説明
コバルトロータリーターゲット、Coターゲットは、高純度コバルト(Co)を使用した物理蒸着プロセス用スパッタリングターゲットです。 回転機構により均一なエロージョンを促進し、基板上の膜の均一性を向上させます。カスタマイズされた寸法の仕様は、様々な蒸着システムとの互換性をサポートします。制御された微細構造と化学組成は、精密な薄膜蒸着が重要な製造用途において一貫した性能を提供します。
コバルトロータリーターゲット、Coターゲットの特性
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特性
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値
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組成
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コバルト
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純度
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≥99.99%以上、またはカスタマイズ
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形状
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ターゲット
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形状
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管状
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密度
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≥8.9 g/cm3 以上
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寸法
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カスタマイズ
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*上記の 製品情報は理論的なデータに基づくものであり、参考値です。実際の仕様とは異なる場合があります。
コバルトロータリーターゲット、Coターゲット用途
エレクトロニクス製造
- 半導体製造のスパッタリングターゲットとして使用され、コバルトの特徴であるエロージョン特性を生かした均一な薄膜成膜を実現します。
工業プロセス
- 材料の予測可能なスパッタリング挙動を利用して耐摩耗性層を構築するように設計されたコーティングシステムのカソードターゲットとして適用される。
- マグネトロンスパッタリングセットアップのコンポーネントとして使用され、一貫したターゲットのエロージョンが膜厚の制御とデバイス性能の向上に貢献します。
コバルトロータリーターゲット、Coターゲット包装
ターゲットは汚染を防ぐため、クリーンルームグレード、帯電防止、防湿材料で梱包されています。酸化や機械的損傷を避けるため、クッション性のある不活性ガス充填容器に密封されています。保管条件は、低湿度と温度管理が必要です。独自の取り扱いや輸送要件に対応するため、発泡インサートや特定のラベル付けを含むカスタムパッケージングソリューションが利用可能です。
追加情報
スパッタリングターゲットは、材料の均一性と予測可能な侵食が膜品質に直接影響する物理蒸着において重要なコンポーネントです。コバルトは、その明確な物理的・化学的特性を活かし、耐久性が高く安定したコーティングを必要とする用途に広く利用されています。回転式設計は、スパッタリング負荷を表面全体に均等に分散させることで、ターゲットの効率をさらに高めます。
最近の成膜技術の進歩は、コバルトのような金属ターゲットの使用に磨きをかけ続け、半導体や電子機器用途における膜の密着性と均一性の向上を促進している。材料特性とプロセスパラメーターの相互作用を理解することは、成膜結果を最適化し、さまざまな産業分野における技術革新を可能にするために不可欠である。