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ST11180 クロム平面ターゲット、Crターゲット

カタログ番号 ST11180
構成 Cr
純度 ≥99.5%以上、またはカスタマイズ
フォーム ターゲット
形状 長方形
寸法 カスタマイズ

クロムプラナーターゲット、Crターゲットは、薄膜蒸着用に平面状に構成された高純度クロム金属からなるスパッタリングターゲットです。この製品はスタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ社(SAM)によって製造され、厳密な物理蒸着モニタリングと原子スケールの表面評価を採用しています。SAM社は、分光分析や寸法校正を含む体系的な品質管理プロセスを用いて、厳格な公差を維持し、スパッタリング用途での一貫した性能を保証しています。

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概要
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FAQ

カスタマイズされた寸法は、スパッタリング蒸着における膜の均一性にどのような影響を与えるのか?

ターゲットの寸法をカスタマイズすることで、様々なスパッタリングシステムとの互換性を確保し、均一な膜厚を促進します。この正確なサイジングにより、シャドーイング効果を最小限に抑え、基板全体への材料の均一な分布をサポートします。

このターゲットの製造過程では、どのような品質管理措置がとられているのか?

製造プロセスには、材料の純度と表面の平坦性をモニターするための分光分析と原子間力顕微鏡が含まれる。このような管理によりばらつきを抑え、各ターゲットが正確な蒸着要件を満たすようにしています。

クロムスパッタリングターゲットを使用するシステムのメンテナンスプロトコルはありますか?

クロムのスパッタリングターゲットを使用するシステムは、粒子汚染を避けるために定期的なクリーニングとキャリブレーションを行う必要があります。ターゲットの磨耗を監視し、出力設定を調整することで、安定した膜質を確保することができます。詳細な技術ガイダンスについてはお問い合わせください。

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