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  • ST11184 銅インジウムガリウム平面スパッタリングターゲット、CIGターゲット

    • ST11184 銅インジウムガリウム平面スパッタリングターゲット、CIGターゲット

    カタログ番号 ST11184
    構成 Cu、In、Ga
    純度 ≥99.995%以上、またはカスタマイズ
    フォーム ターゲット
    形状 長方形
    寸法 カスタマイズ

    銅インジウムガリウム平面スパッタリングターゲット、CIGターゲットは、薄膜蒸着用途向けに制御された組成で調製されたスパッタリング材料です。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、微細構造の均一性と組成精度を監視するために、高度な真空蒸着とSEM分析などの表面検査技術を利用しています。このプロセスには、各ターゲットが厳しい寸法および組成基準を満たすことを確認するための体系的なバッチテストが含まれます。

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    FAQ

    スパッタリングターゲットのカスタマイズ寸法は膜の均一性にどのように影響しますか？

    カスタマイズされた寸法により、成膜システムの形状に正確に合わせることができます。これにより、ターゲット全体のプラズマ分布が最適化され、基板全体でより均一な薄膜が得られます。ターゲットサイズを調整することで、蒸着速度と膜厚の均一性を制御することができます。詳細はお問い合わせください。

    合金組成はスパッタリングプロセスの性能にどのような役割を果たすのか？

    銅、インジウム、ガリウムの特定の合金組成は、スパッタの歩留まりと膜の微細構造の両方に影響する。厳密な組成バランスを維持することは、成膜において望ましい電気的・光学的特性を達成するために極めて重要である。プロセス調整は、アプリケーションの要件に基づいて行うことができる。

    微粒子汚染を最小限に抑えるために、製造工程ではどのような品質管理が行われていますか？

    品質管理には、光学顕微鏡やパーティクルカウント検査による表面清浄度の検証が含まれる。これらの対策により、汚染物質が重要な閾値以下に保たれ、スパッタリング中のターゲット表面の完全性と一貫性が維持されます。包括的なプロセスの詳細については、当社までお問い合わせください。

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