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  • ST11191 インジウム回転ターゲット、ターゲット内

    • ST11191 インジウム回転ターゲット、ターゲット内

    カタログ番号 ST11191
    構成 で
    純度 ≥99.99%以上、またはカスタマイズ
    フォーム ターゲット
    形状 チューブラー
    寸法 カスタマイズ

    インジウムロータリーターゲットは、高純度インジウムを使用したスパッタリング成膜プロセス用に設計されています。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）は、真空アーク溶解と走査型電子顕微鏡（SEM）による表面分析を適用し、微細構造の均一性を監視しています。製造工程では、寸法精度と制御された表面仕上げを重視し、一貫した薄膜蒸着をサポートしています。SAMは、主要なパラメーターを検証し、製品が正確な技術基準を満たしていることを確認するために、定量的な品質管理手法を統合しています。

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    FAQ

    スパッタリング中の膜の均一性に対するロータリー設計の影響は？

    回転式構成により、ターゲット表面全体の均一な浸食が促進され、蒸着速度と膜厚を一定に保つことができる。この設計により、局所的な空乏が最小限に抑えられ、広い基板領域にわたって均一な薄膜特性が維持されます。

    カスタマイズされた寸法は成膜プロセスにどのような影響を与えるのか？

    カスタマイズされた寸法により、ターゲットは特定のスパッタリング装置に適合し、適切なアライメントと均一な電力分布を保証します。これにより、エッジ効果を低減し、成膜の均一性に貢献します。

    ターゲットの表面の完全性を評価するために、どのような品質管理方法が適用されるのか？

    SAMは、走査型電子顕微鏡（SEM）による表面プロファイリングと工程内寸法計測を採用し、表面の質感と一貫性をチェックしている。これらの技術は、スパッタリングシステムに導入する前に微細構造の不規則性を特定するのに役立ちます。

    最終推奨

    Indium Ingot (In Ingot)
    IN0480 インジウム・インゴット (インゴット)
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    sc/1747645804-IN0873.jpg
    IN0873 インジウム（In）箔/ シート/ ストリップ
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    Indium Wire (In Wire)
    IN0983 インジウム・ワイヤー（イン・ワイヤー）
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    Indium Metal Powder
    IN1272 インジウム微粉末 (In Powder) (CAS No.7440-74-6)
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    Nano Indium Powder
    NN1559 ナノインジウム粉末 (CAS 番号: 7440-74-6)
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    Spherical Indium Powder
    IN4313 球状インジウム粉末
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    Indium Planar Sputtering Target, In Target
    ST11190 インジウムプラナースパッタリングターゲット、ターゲット内
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    Indium Rod
    IN7019 インジウム（In）ロッド
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