ニオブプラナーターゲット、Nbターゲット 説明
ニオブプラナーターゲット(Nbターゲット)は、スパッタリング用に特別に加工された高純度ニオブ金属から製造され、その平面設計は均一な成膜と幅広いスパッタリングシステムとの互換性を保証します。このターゲットの一貫した組成は、膜の均一性を向上させることで、半導体やコーティング用途の成膜プロセスにメリットをもたらします。
ニオブ平面ターゲット、Nbターゲットの特性
|
特性
|
値
|
|
組成
|
Nb
|
|
純度
|
≥99.95%以上、またはカスタマイズ
|
|
形状
|
ターゲット
|
|
形状
|
長方形
|
|
密度
|
≥8.57 g/cm3 以上
|
|
熱伝導率
|
54 W/m-K
|
|
ボンディングタイプ
|
なし、インジウム、またはカスタマイズ
|
|
寸法
|
カスタマイズ
|
*上記の製品情報は理論的なデータに基づくものであり、参考値です。実際の 仕様は異なる場合があります。
ニオブ平面ターゲット、Nbターゲット用途
エレクトロニクス
- 半導体製造のスパッタリングソースとして使用され、制御された組成を利用して均一な薄膜成膜を実現し、電子デバイス製造の一貫性を高めます。
工業処理
- サーフェスエンジニアリングシステムのコーティングターゲットとして使用され、膜の密着性を向上させる。ニオブの純度を制御することで、微細構造の欠陥を最小限に抑え、安定したプロセス性能に貢献します。
研究開発
- 成膜パラメータを研究するための実験的スパッタリングセットアップにおいて、カスタマイズ可能なターゲットとして使用されます。検証済みの材料特性により、系統的な変動と信頼性の高いデータ収集が可能です。
ニオブ平面ターゲット、Nbターゲットパッキング
ニオブ平面ターゲット、Nbターゲットは、輸送中の機械的損傷や汚染を防ぐため、クッション性のある帯電防止容器に梱包されています。ターゲットは保護フィルムで包まれ、硬い箱の中に固定されます。低湿度で温度管理された環境での保管を推奨します。特定の取り扱い要件を満たすために、真空シールや追加ラベルを含むカスタムパッケージングオプションが利用可能です。
追加情報
ニオブは融点が高く、化学的に不活性であるため、スパッタリングターゲット用途に広く使用されています。XRDやSEMなどの詳細な特性評価法は、ターゲットが正確な組成および機械的要件を満たすために不可欠です。
材料科学の進歩は、ニオブターゲットの加工技術を向上させました。純度や表面形状の制御が強化されたことで、薄膜蒸着プロセスの再現性が向上し、エレクトロニクスやコーティング産業への応用に不可欠なものとなりました。