ST11199 五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲット

カタログ番号	ST11199
構成	Nb2O5
純度	≥99.95%以上、またはカスタマイズ
フォーム	ターゲット
形状	長方形
寸法	カスタマイズ

五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲットは、スパッタリング用途向けに均一な平面表面を達成するために、制御された合成方法を用いて製造されます。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）は、製造工程でSEM分析を含む高度な検査技術を利用し、表面の均一性と組成を検証します。ターゲットは厳格なプロセス制御の下で製造され、要求の厳しい薄膜蒸着プロセスにおいて、材料分布の一貫性と構造的完全性を保証します。

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概要

仕様

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FAQ

五酸化ニオブターゲットを使用する場合、どのようなスパッタリングプロセスを考慮することが重要ですか？

Nb2O5ターゲットを使用する場合、安定したArプラズマを維持し、蒸着速度をモニターすることが不可欠である。ターゲットの平面形状に対応し、マイクロクラックを誘発することなく均一な薄膜成膜を確保するためには、出力設定の調整が必要な場合がある。

材料純度は五酸化ニオブスパッタリング・ターゲットの性能にどのような影響を与えるのか？

高い材料純度は、微粒子汚染を最小限に抑え、成膜中の一貫した膜特性を保証します。化学組成を正確に制御することにより、膜の均一性と密着性が向上し、厳しいプロセス仕様が要求される用途に不可欠です。

スパッタリング前の五酸化ニオブターゲットに推奨される前処理はありますか？

前処理には、表面汚染物質を除去するための穏やかな洗浄と乾燥が含まれる。このような処理を行うことで、最適な密着性が得られ、スパッタリング中のアーク形成が防止される。詳細なガイドラインについては、ターゲットに付属の技術資料を参照してください。

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ST11199 五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲット

五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲットの説明

五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲットの特性

五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲット用途

五酸化ニオブ平面ターゲット、Nb2O5ターゲット包装

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FAQ

五酸化ニオブターゲットを使用する場合、どのようなスパッタリングプロセスを考慮することが重要ですか？

材料純度は五酸化ニオブスパッタリング・ターゲットの性能にどのような影響を与えるのか？

スパッタリング前の五酸化ニオブターゲットに推奨される前処理はありますか？

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会社概要

パラメータ	値
組成	Nb2O5
純度	≥99.95%以上、またはカスタマイズ
形状	ターゲット
形状	長方形
密度	≥4.47 g/cm3 以上
ボンディングタイプ	なし、インジウム、またはカスタマイズ
寸法	カスタマイズ

パラメータ	数値
組成	Nb2O5
純度	≥99.95%以上、またはカスタマイズ
形状	ターゲット
形状	長方形
密度	≥4.47 g/cm3 以上
ボンディングタイプ	なし、インジウム、またはカスタマイズ
寸法	カスタマイズ