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  • ST11209 シリコンスパッタリングターゲット、Siターゲット

    • ST11209 シリコンスパッタリングターゲット、Siターゲット

    カタログ番号 ST11209
    構成 Si
    純度 ≥99.99%以上、またはカスタマイズ
    フォーム ターゲット
    形状 丸型, 長方形
    寸法 カスタマイズ

    シリコンスパッタリングターゲット、Siターゲットは、物理蒸着用に製造されるシリコン金属ターゲットです。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）では、確立された化学気相成長法と社内電子顕微鏡を適用し、製造中の表面の均一性を監視しています。SAMのプロセスには、定量的欠陥検査と較正密度測定が含まれ、薄膜蒸着に重要な材料仕様を維持します。 このターゲットは、測定された組成と寸法精度に注意して製造されます。

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    FAQ

    カスタマイズされた寸法機能は、スパッタリング・アプリケーションにおける成膜の均一性にどのような影響を与えますか？

    カスタマイズされた寸法により、特定のターゲットサイズを必要とする装置構成に組み込むことができ、薄膜蒸着の均一性を向上させることができます。プロセス要件に適応することで、エッジ効果を最小限に抑え、安定した薄膜成長をサポートします。統合に関する詳細なアドバイスについては、弊社までお問い合わせください。

    シリコンスパッタリングターゲットで一般的に観察される材料純度の仕様は？

    高純度シリコンは、汚染物質による蒸着膜のばらつきを抑えるために使用される。製造工程では、定量的なアッセイテストと表面検査を行い、シリコンが半導体プロセスに不可欠な管理された純度レベルを満たしていることを確認します。

    シリコンターゲットは、スパッタリングシステムのさまざまな要件に合わせて調整できますか？

    はい、寸法のカスタマイズが可能です。これにより、様々なチャンバー形状や成膜システムに対応することができます。ターゲットサイズを調整することで、さまざまな生産セットアップにおけるスパッタリング効率と膜の均一性を最適化することができます。

    最終推奨

    Nano Silicon Powder (Si) (CAS No.7440-21-3)
    NN0237 ナノシリコンパウダー (Si) (CAS No.7440-21-3)
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    Micro Silicon Powder (Si) (CAS No.7440-21-3)
    NN0238 マイクロシリコンパウダー (Si) (CAS No.7440-21-3)
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    sc/1752221043-SM1060.jpg
    SM1060 シリコンパウダー (Si Powder) (CAS No.7440-21-3)
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    sc/1744365415-SM1101.jpg
    SM1101 シリコンメタル（Siメタル）
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    Silicon Metalloid Powder for Thermal Spraying
    TS1373 溶射用シリコン(Si)メタロイド粉末
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    sc/1761210247-SM4311.jpg
    SM4311 球状シリコンSiパウダー
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    Polycrystalline Silicon Powder
    SI10671 多結晶シリコンパウダー
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