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  • ST11211 スズ平面ターゲット、スズターゲット

    • ST11211 スズ平面ターゲット、スズターゲット

    カタログ番号 ST11211
    構成 スナップ
    純度 ≥99.99%以上、またはカスタマイズ
    フォーム ターゲット
    形状 長方形
    寸法 カスタマイズ

    錫プレーナターゲット、錫ターゲットは、薄膜蒸着用の高純度錫から製造されるスパッタリングターゲットです。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、走査型電子顕微鏡と表面形状測定法を用いた厳格な品質管理を行い、寸法精度と表面の均一性を検証しています。製造工程では、厳密な組成管理と平面平坦性に重点を置き、工業用途における成膜の一貫性をサポートします。 SAMでは、製造中に精密な材料ハンドリングとインライン計測を統合し、性能の再現性を維持します。

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    FAQ

    この錫ターゲットのスパッタリング性能に最も影響するパラメータは何ですか？

    表面の平坦度と純度レベルは非常に重要である。偏差は膜の均一性と成膜速度に影響する。スパッタリング中の微粒子発生を最小限に抑えるには、一貫したターゲット組成と正確な寸法が不可欠である。

    カスタマイズされた錫スパッタリングターゲットを使用する場合、統合の問題はどのように最小化できますか？

    正確な寸法管理により、標準的な蒸着チャンバーとの互換性を実現。指定されたカスタマイズが装置の公差と洗浄プロトコルに適合していることを確認し、アライメントエラーと粒子汚染を低減します。

    錫ターゲットの表面の完全性を確認するには、どのような試験方法が推奨されますか？

    表面の平坦度を評価し、不純物を検出するには、表面形状測定と走査型電子顕微鏡を使用することが望ましい。これらの技術は、工程管理の維持に不可欠な定量的測定を提供します。詳細については、弊社までお問い合わせください。

    最終推奨

    Nano Tin Powder (Sn) (CAS No.7440-31-5)
    NN0265 ナノ錫パウダー (Sn) (CAS No.7440-31-5)
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    Micro Tin Powder
    SN0266 マイクロ錫パウダー (Sn) (CAS No. 7440-31-5)
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    ITO0491 Indium Tin Oxide (ITO) Sputtering Targets
    ST0334 酸化インジウムスズ（ITO）スパッタリングターゲット
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    fluorine-doped-tin-oxide-fto-sputtering-target
    ST0424 フッ素ドープ酸化スズFTOスパッタリングターゲット
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    Tin (Sn) Evaporation Materials
    VD0585 スズ蒸着材料
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    Tin Zinc (Sn/Zn) Evaporation Materials
    VD0648 スズ亜鉛（Sn/Zn）蒸着材料
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    Zinc Tin (Zn/Sn) Evaporation Materials
    VD0662 亜鉛スズ(Zn/Sn)蒸着材料
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    VD0693 Indium Tin Oxide (ITO) Evaporation Materials
    VD0693 酸化インジウムスズ（ITO）蒸着材料
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