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  • ST11213 ストロンチウムアルミネートスパッタリングターゲット、SrAl2O4ターゲット

    • ST11213 ストロンチウムアルミネートスパッタリングターゲット、SrAl2O4ターゲット

    カタログ番号 ST11213
    構成 SrAl2O4
    純度 ≥99.9%以上、またはカスタマイズ
    フォーム ターゲット
    CAS番号 12004-37-4
    寸法 カスタマイズ

    ストロンチウムアルミネートスパッタリングターゲット、SrAl2O4ターゲットは、薄膜製造における蒸着プロセスに最適化されたSrAl2O4からなるセラミックスパッタリングターゲットです。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ（SAM）は、定量的な表面分析と微細構造評価技術を採用し、化学組成と均一性を検証しています。製造プロセスには、制御された焼結とインライン密度測定が組み込まれており、ターゲットが工業用スパッタリング用途の正確な材料仕様を満たしていることを保証します。

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    FAQ

    スパッタリングターゲットの微細構造の一貫性は成膜にどのような影響を与えますか？

    一貫した微細構造により、成膜プロセスにおけるターゲットからの均一な浸食が保証される。その結果、予測可能な膜厚と組成が得られ、これは機能性コーティングや半導体デバイスにおけるプロセスの再現性に不可欠です。

    SrAl2O4ターゲットの製造工程では、どのような品質管理が行われていますか？

    SAMは、インライン密度分析と電子顕微鏡を使用した焼結後の微細構造評価を適用しています。これらの測定は、厳格な組成公差を維持し、ターゲットの材料特性が最適なスパッタリング性能をサポートすることを保証するのに役立ちます。

    異なるスパッタリングシステム用にターゲット寸法をカスタマイズできますか？

    ターゲット寸法はカスタマイズ可能です。この柔軟性により、様々なスパッタリングセットアップに対応し、ターゲットサイズを装置仕様に合わせることで成膜プロセスを最適化することができます。詳細なカスタマイズオプションについてはお問い合わせください。

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    VD0580 ストロンチウム（Sr）蒸発材料
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    VD0672 Barium Strontium Titanate (Ba0.5Sr0.5TiO3) Evaporation Materials
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    VD0728 Strontium Titanate (SrTiO3) Evaporation Materials
    VD0728 チタン酸ストロンチウム蒸発材料, SrTiO3
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    VD0729 ジルコン酸ストロンチウム蒸発材料, SrZrO3
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    Strontium Fluoride (SrF2) Evaporation Materials
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    TH1887 Lanthanum Strontium Cobaltite Cathode Powder (LSC Cathode Powder)
    TH1887 ランタンストロンチウムコバルト正極粉（LSC正極粉）
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    Lanthanum Strontium Cobalt Ferrite Cathode Powder (LSCF Cathode Powder)
    TH1888 ランタンストロンチウムコバルトフェライトカソードパウダー（LSCFカソードパウダー）
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