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ST11221 硫化亜鉛平面ターゲット、ZnSターゲット

カタログ番号 ST11221
構成 亜鉛華
純度 ≥99.99%以上、またはカスタマイズ
フォーム ターゲット
形状 長方形
寸法 カスタマイズ

硫化亜鉛平面ターゲット、ZnSターゲットは精密なスパッタリング蒸着プロセス用に設計されています。ターゲットは、均一な薄膜形成をサポートするために制御された平面形状で製造されています。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ(SAM)は、材料の均質性と不純物制御を確認するために、詳細なSEM検査と制御された雰囲気焼結を採用しています。 これらの技術プロトコルは、ターゲットが工業用途における安定した成膜のための厳しい要件を満たすことを保証します。

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概要
仕様
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FAQ

ZnSスパッタリングターゲットに平面形状を使用する意義は?

平面形状により、スパッタリング中の膜厚が均一になり、成膜層のばらつきが減少します。この特徴は、一貫した光学的および電気的特性を必要とするプロセスには不可欠です。技術的な詳細についてはお問い合わせください。

焼結プロセスはZnSターゲットの品質にどのような影響を与えますか?

制御された焼結は、均質な微細構造を促進し、不純物を最小限に抑えます。このプロセスにより、スパッタリング成膜中の材料の密度と全体的な性能が向上します。製造プロセスに関するさらなる洞察については、当社までお問い合わせください。

ZnSターゲットの寸法は、特定のスパッタリングシステムにカスタマイズ可能ですか?

また、装置要件に合わせて寸法をカスタマイズできるため、さまざまなスパッタリング装置との互換性を確保できます。この柔軟性により、膜の均一性を維持しながら、多様な成膜セットアップに統合することができます。カスタマイズオプションについてはお問い合わせください。

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