モリブデンロータリーターゲット 99.95%、直径6インチ6インチ 説明
純度99.95%のモリブデンで精密に設計された当社のモリブデンロータリーターゲットは、要求の厳しい薄膜蒸着プロセスにおいて卓越した安定性と性能を提供します。直径6インチのこのターゲットは、優れた熱伝導性と高融点を特徴とし、熱と腐食に対する優れた耐性を保証します。その均一な微細構造と密度は、半導体、航空宇宙、エネルギー分野のエンドユーザーにとって、信頼性の高い一貫したスパッタリング結果を保証します。
厳格な品質管理基準の下で製造されたモリブデンロータリーターゲットは、純度および組成に関する業界要件を満たし、または上回っています。各ターゲットは、化学的一貫性と構造的完全性を確認するために厳格な検査を受けており、メーカーが汚染を最小限に抑えて精密なコーティングを実現するのに役立っています。当社のモリブデンロータリーターゲットは、次世代エレクトロニクスの開発でも、機械部品の強化でも、最高品質の結果を得るために必要な信頼性の高い性能を提供します。
モリブデンロータリーターゲット 99.95%, Dia.6インチ
直径6インチのモリブデンロータリーターゲット99.95%は、優れた純度と高温安定性を備えており、信頼性の高い高性能コーティングの製造に最適です。その堅牢な構造は、安定した膜質にとって重要な均一なスパッタリング速度の維持に役立ちます。薄膜蒸着、半導体製造、光学コーティングのいずれにおいても、このMoターゲットは、その優れた熱伝導性、耐食性、低アウトガス性によって際立ち、要求の厳しい用途において卓越した結果を保証します。
1.薄膜蒸着用途
- PVDコーティング:Moの高融点と耐食性を利用して、さまざまな基板上に保護層や装飾層を成膜するのに理想的。
- マグネトロンスパッタリング:均一で安定した成膜が可能で、航空宇宙産業やエレクトロニクス産業に不可欠な高密度コーティングが可能。
2.半導体用途
- 集積回路Moの優れた熱伝導性と汚染リスクの最小化により、安定した信頼性の高い導電層を提供。
- 電子部品トランジスタやダイオードへの精密な成膜を容易にし、デバイスの小型化と高性能化をサポートします。
3.光学コーティング用途
- 反射防止コーティング:レンズやミラー上の堅牢で長持ちする薄膜により、光学的な透明度と効率を向上させる。
- ミラーコーティング優れた反射率と耐酸化性を実現し、要求の厳しい光学システムにおいて安定した性能を保証します。
モリブデンロータリーターゲット 99.95%, Dia.6インチパッケージ
各モリブデンロータリーターゲット(99.95%)は、輸送中の損傷を防ぐため、発泡インサートで慎重に保護されています。直径6インチのピースは、耐湿性バッグに真空密封され、酸化防止バリアを提供します。さらに乾燥剤パックが乾燥状態を確保します。外装パッケージは、製品仕様のラベルが貼られた丈夫でカスタマイズ可能なカートンが特徴です。特殊な取り扱いや保管の要件に対応するため、オプションで特注のブランド表示、ラベル付け、追加保護材も承ります。
包装真空シール、木箱、またはカスタマイズ。
モリブデンロータリーターゲット 99.95%、Dia.6インチ FAQ
Q1: モリブデン回転ターゲット99.95%, Dia.6インチ
A1: この高純度モリブデンターゲットは、優れた熱伝導性、高融点(~2,623℃)、優れた耐食性を示します。純度は99.95%で、不純物を最小限に抑え、機械的強度と構造的完全性を高めています。この材料は、均一なスパッタリング性能のために一貫した粒径を維持し、低熱膨張係数を特徴としています。これらの特性により、高熱および真空条件下で安定した性能を必要とする要求の厳しい用途に最適です。
Q2:このMoスパッタリングターゲットはどのように加工または製造できますか?
A2:一般的な製造方法には粉末冶金技術が含まれ、モリブデン粉末をプレス、焼結した後、高密度化のために熱間静水圧プレス(HIP)を行います。初期成形の後、特殊な機械加工、研削、研磨工程が施され、必要な直径と滑らかな表面仕上げが得られます。回転鍛造などの追加工程により、ターゲットの結晶粒構造を微細化し、スパッタリングの一貫性を向上させ、正確な寸法仕様に適合させることができます。
Q3: モリブデンロータリーターゲット99.95%, Dia.6インチ
A3: 一般的に、これらのターゲットはモリブデンおよびモリブデン合金の板、シート、箔のASTM B386に準拠しており、検証された機械的および化学的特性を保証しています。製造業者は、一貫した製造方法を保証するために、多くの場合ISO9001品質管理システムに従っています。認証文書には、第三者機関によって検証された純度報告書や寸法公差を検証した検査表が含まれる場合があります。このような包括的な品質フレームワークは、重要な薄膜蒸着プロセスにおいて再現可能な性能と信頼性を保証します。
関連情報
1.原材料 - Mo材料
Moは様々なスパッタリング用途で使用される貴重な材料です。Moは、高度な処理工程を経て抽出・精製されます。スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズでは、信頼できるサプライヤーから高品位の材料を調達し、当社のスパッタリングターゲット製品の品質と一貫性を確保しています。
2.スパッタリングターゲットの製造
Moスパッタリングターゲットの製造には、粉末冶金を含むいくつかの方法が使用されます。各製造方法によって、密度、結晶粒構造、表面特性などのターゲットの特性が異なる。製造方法は、目的とする用途の要件と性能仕様に基づいて選択される。
仕様
仕様
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価格
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外形寸法
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直径6インチ
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密度
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10.28 g/cm³
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融点
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2623℃
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スパッタ
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DC
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結合タイプ
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インジウム、エラストマー
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*上記製品情報は理論値であり、参考値です。実際の仕様とは異なる場合があります。