六ホウ化ランタンディスクの説明
六ホウ化ランタンディスク(LaB6ディスク、ホウ化ランタン、LaB6とも呼ばれる)は無機化学物質です。融点2528KのLaB6は耐火性セラミック材料で、水に非常に溶けにくく、加熱(焼成)すると酸化物に変化し、真空中で非常に安定です。化学量論的な試料は強い紫紫色を呈し、ホウ素に富むもの(LaB6.07以上)は青色を呈する。イオン照射によって紫色からエメラルドグリーンに変化する。LaB6ディスクは、転移温度が0.45Kと比較的低い超伝導体である。
ホウ化物は、金属のような導電性を持つ硬くて高融点な物質で、非酸化性の酸には安定だが、強酸化剤や強アルカリでは分解する。ホウ化物は半導体、超伝導体、反磁性体、常磁性体、強磁性体、反強磁性体、タービンブレード、ロケットノズルなどに使用されている。高純度(99.999%)ホウ化ランタン スパッタリング ターゲット ナノパウダー形態も検討可能。

六ホウ化ランタンディスク仕様
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製品名
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六ホウ化ランタン
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構造
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多結晶
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記号
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LaB6
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熱伝導率
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47 W/mK (20℃)
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Cas いいえ。
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12008-21-8
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熱膨張
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6.2 10-6K-1(20-900℃)
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原子質量
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203.78 g/mol
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電気抵抗
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約15μΩcm(20)
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密度
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4.72g/cm3
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導電性
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6.65x104S/cm (20℃)
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融点
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2528 K
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電流密度
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150 A/cm2 (1950℃)
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硬度
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87.5 RA
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電子放射率
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2.6 eV
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曲げ強度 (σ)
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200 Mpa
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破壊靭性 (Kic)
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3.0MN/m3/2
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六ホウ化ランタンディスクの用途
* 熱電子放出(陰極)
* プラズマエンハンストコーティング(PECVD)用プラズマソース
* 真空電子ビーム溶接機
* 電子ビーム表面改質装置
* 電子ビーム露光装置
* 透過型電子顕微鏡
* 走査型電子顕微鏡
* 表面分析装置
* 放射線治療装置

六ホウ化ランタンディスクの梱包
SAMsのLaB6セラミックスは、保管中や輸送中の損傷を最小限に抑え、製品の品質を元の状態で維持するため、慎重に取り扱われています。

他のセラミック材料についても試作サービスをご利用いただけます。
アルミナ
窒化アルミニウム
窒化ホウ素
炭化ケイ素
窒化ケイ素
ジルコニア

よくある質問
- LaB₆ディスクは何に使用されていますか?
SEM、TEM、X線装置の電子放出源。
プラズマおよび真空装置のターゲット材または電極ディスク
高温または超高真空環境用の熱電子エミッターまたはヒーターエレメント。
- LaB₆の主な利点は何ですか?
低い仕事関数(~2.6~2.8eV)→効率的な電子放出。
高融点(~2210℃)→熱安定性。
高い導電率と硬度(モース硬度~9.5)。
高真空または超高真空での長寿命。
タングステンエミッタよりも優れた輝度と低消費電力。
- 取り扱いおよび保管
酸化を防ぐため、乾燥雰囲気または不活性雰囲気で保管してください。
表面の湿気や指紋を避けてください。
LaB₆は硬いがもろい。
使用前にアルコールまたは真空と互換性のある溶剤で洗浄してください。
最高のパフォーマンスと寿命を得るためには、真空(<10-⁶ Torr)で使用してください。
仕様
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製品紹介
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六ホウ化ランタン
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構造
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多結晶
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記号
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LaB6
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熱伝導率
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47 W/mK (20℃)
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Cas いいえ。
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12008-21-8
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熱膨張
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6.2 10-6K-1(20-900℃)
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原子質量
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203.78 g/mol
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電気抵抗
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約15μΩcm(20)
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密度
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4.72g/cm3
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導電性
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6.65x104S/cm (20℃)
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融点
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2528 K
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電流密度
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150 A/cm2 (1950℃)
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硬度
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87.5 RA
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電子放射率
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2.6 eV
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曲げ強度 (σ)
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200 Mpa
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破壊靭性 (Kic)
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3.0MN/m3/2
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*上記の製品情報は理論データに基づくものであり、参考値です。実際の仕様とは異なる場合があります。