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NK3861 ニッケルテルライドCVD薄膜(NiTe2)

カタログ番号 NK3861
素材 SiO2/Si、石英、サファイア、シリコンウェハー、PETなど
寸法 10*10、15*15、20*20 mm
製造方法 化学気相成長法(CVD)

弊社は、SiO2/Si、石英、サファイア、シリコンウェハー、PETなど、様々な基板上に ニッケルテルライドCVD膜を提供しています。スタンフォードアドバンストマテリアルズ(SAM)は、高品質のニッケルテルライドCVD膜の製造と供給において豊富な経験を持っています。

関連製品二セレン化タングステンCVDフィルム(WSe2)二セレン化ビスマスCVDフィルム(Bi2Se3)二セレン化スズサファイアフィルム(SnSe2)

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