エルビウム(Er)スパッタリングターゲット 説明
エルビウム(Er)スパッタリングターゲットは、最新の薄膜蒸着アプリケーションの厳しい要件を満たすように設計されています。99%以上の純度と制御された純Er組成により、このターゲットは優れた安定性と性能をお約束します。高い融点と正確な密度により、半導体加工、光学コーティング、材料研究に最適です。厳密な仕様で製造されたこの製品は、標準ディスクとして入手可能であり、独自のプロジェクトのニーズに合わせてカスタムメイドすることもできます。
エルビウム(Er)スパッタリングターゲット用途
- 半導体プロセス:薄膜蒸着によるマイクロエレクトロニクスおよび半導体デバイスの製造に不可欠です。
- 薄膜蒸着:高精度の光学および電子部品に均一で信頼性の高い成膜を提供します。
- 光学コーティング:レーザー、センサー、その他の光学機器に使用される高品質コーティングの作成に最適。
- 研究開発:科学研究および材料科学の調査において、高度な実験用途に広く採用されている。
エルビウム(Er)スパッタリングターゲットパッケージング
エルビウムスパッタリングターゲットは、その高純度と正確な物理的特性を維持するために安全に梱包されます。通常、各ターゲットは、保管中および輸送中の保護を確実にするため、専用のパッケージに真空封入されます。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: エルビウムスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体、光学、先端電子用途の薄膜蒸着プロセスで使用されます。
Q: 純度99%以上とはどういう意味ですか?
A: 純度99%以上とは、材料に含まれる不純物が極めて少ないことを意味し、精密用途において最適な性能を発揮します。
Q: スパッタリングターゲットはカスタム形状で製造できますか?
A: はい、標準ディスクが利用可能ですが、特定の設計要件を満たすためにターゲットを特注することもできます。
Q: 1529℃という高い融点はスパッタリングプロセスにどのようなメリットをもたらしますか?
A: 融点が高いため、スパッタリング中の高温下でも材料が安定し、安定した性能が得られます。
Q: 包装されたスパッタリングターゲットの品質を保証するためにどのような対策がとられていますか?
A: 各ターゲットは、保管および輸送中も純度と構造的完全性を維持するため、真空密封され、しっかりと梱包されています。