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  • ST0013 エルビウム（Er）スパッタリングターゲット

    • ST0013 エルビウム（Er）スパッタリングターゲット

    カタログ番号 ST0013
    構成 えー
    CAS番号 7440-52-0
    純度 ≥99%
    形状 ディスク、オーダーメイド
    Diameter 2インチ、3インチ、4インチ、5インチ、6インチ、またはカスタムサイズ
    Thickness 0.25インチ、0.125インチ、またはカスタム仕様
    Bond Type 銅、またはカスタマイズされた

    エルビウム（Er）スパッタリングターゲットは、精密用途において卓越した性能と揺るぎない信頼性を提供します。Stanford Advanced Materials 社は、優れた品質と一貫性を備えた先端材料のエンジニアリングに取り組んでおり、業界をリードする性能を保証します。

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    Aluminum (Al) Sputtering Target
    ST0001 アルミニウム（Al）スパッタリングターゲット
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    Barium (Ba) Sputtering Target
    ST0003 バリウム（Ba）スパッタリングターゲット
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    ST0005 ホウ素（B）スパッタリングターゲット
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    Cadmium (Cd) Sputtering Target
    ST0006 カドミウム（Cd）スパッタリングターゲット
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    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット
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    Chromium (Cr) Sputtering Target
    ST0009 クロム（Cr）スパッタリングターゲット
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    ST0010 コバルト（Co）スパッタリングターゲット
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    Copper (Cu) Sputtering Target
    ST0011 銅（Cu）スパッタリングターゲット
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    アメリカ合衆国

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      • 99.999%
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      2''

      • 2''
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      • 6''
      • その他
      • Other
      厚さ

      0.25''

      • 0.25''
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      • すべて
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