ガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲット 説明
ガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲットは、高度な産業用途向けに設計されており、薄膜蒸着プロセスにおいて卓越した性能を発揮します。高純度Gd(99%以上)で製造されたこのターゲットは、標準的なディスク形状で入手可能ですが、お客様の仕様に合わせてカスタムメイドすることもできます。融点は1312℃、密度は7.9g/cm³で、DCスパッタリングに最適化されており、電子、光学、研究用途に最適です。安定した品質と信頼性により、高性能コーティングやマイクロエレクトロニクス部品の製造に適しています。
ガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲット用途
- エレクトロニクス材料の安定性が重要なマイクロエレクトロニクスおよび集積回路製造に最適。
- ディスプレイ技術:高度なディスプレイ・コーティングや光学フィルターの製造に使用される。
- 研究開発:実験的な薄膜蒸着や材料研究に最適。
- 表面コーティング:スパッタ蒸着の精度と均一性が要求される用途に適しています。
- 特殊工業プロセス:センサーや新規デバイス用の高性能工業用スパッタリングに適用できます。
ガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲットパッキング
当社のガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲットは、輸送中に高純度と性能が損なわれないように慎重に梱包されています。 ターゲットは、お客様のご要望に応じてカスタマイズされた梱包オプションで真空密封され、安全で信頼性の高い配送を提供します。
よくある質問
Q: ガドリニウムスパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A: ターゲットの純度は99%以上です。
Q: このターゲットを使用するにはどのスパッタリング法を推奨しますか?
A: このターゲットは主にDCスパッタリング用に設計されています。
Q: 異なる形状やサイズのターゲットはありますか?
A: はい、標準的なディスク形状のほか、お客様のご要望に応じてカスタムメイドすることも可能です。
Q: ターゲットの融点とその理由は何ですか?
A: 融点は1312℃であり、高温のスパッタリングプロセスでも安定した状態を保ちます。
Q: ガドリニウム・スパッタリング・ターゲットはどのように梱包されて出荷されますか?
A: 真空密封され、安全に梱包されます。特定の配送ニーズに合わせてカスタマイズされた梱包も可能です。