ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲット 説明
ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲットは、半導体および電子デバイス製造において優れた性能を発揮するように設計されています。純度99%以上のこのターゲットは、RFおよびDC法の両方で一貫した信頼性の高いスパッタリングを実現します。精密で卓越した設計により、研究、製造、表面コーティングプロセスにおける高度なアプリケーションのニーズを満たします。
ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:高性能マイクロエレクトロニクス製造におけるスパッタリングプロセスに不可欠。
- エレクトロニクス光導電体、ソーラーパネル、集積回路に使用。
- オプトエレクトロニクス:赤外光学やセンサーデバイスに最適。
- 表面コーティング薄膜蒸着技術の高品質材料として使用される。
- 研究開発実験セットアップと材料調査の信頼性を提供します。
ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲットパッキング
当社のゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲットは、輸送中の完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
- ご要望に応じて、カスタム梱包オプションもご利用いただけます。
- 標準的な梱包には、製品の原状を保つための安全で静電気のない容器が含まれます。
よくある質問
Q: ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲットの純度はどの程度ですか?
A: ターゲットは99%以上の純度で製造されており、要求の厳しいアプリケーションに最適な性能を保証します。
Q: カスタム形状のスパッタリングターゲットはありますか?
A: はい、標準ディスクに加え、特定のアプリケーションのニーズに合わせてカスタムメイドの形状も可能です。
Q: どのスパッタリング法に適用できますか?
A: RFスパッタリングとDCスパッタリングの両方に対応しています。
Q: 安全な配送のために、製品はどのように梱包されていますか?
A: 安全で静電気の発生しない容器に梱包され、出荷時に品質が維持されるよう、カスタム梱包も可能です。
Q: このスパッタリングターゲットはどのような産業で使用できますか?
A: このターゲットは、半導体製造、エレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、表面コーティング用途、研究開発に最適です。