ホルミウム(Ho)スパッタリングターゲット 説明
ホルミウム(Ho)スパッタリングターゲットは99%以上の純度で製造され、特定の産業要件に対応するため、精密なディスク形状またはカスタムメイドの形状で提供されます。ホルミウムのユニークな特性により、卓越した磁気、光学、熱性能を必要とする用途で重宝されています。このターゲットは、高度なコーティングプロセスにおいて、均一な成膜と高品質の膜形成を保証します。
ホルミウム(Ho)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着半導体およびディスプレイ製造におけるDCスパッタリングプロセスに最適です。
- 光学コーティング高性能光学フィルターやレーザーの製造に使用。
- 研究開発材料科学研究において、高度な磁気特性や電子特性の基礎材料として使用される。
- 特殊コーティング:耐摩耗性や耐腐食性の表面を必要とするニッチ産業で使用される。
- 工業生産:様々な工業用コーティングシステムでの再現性の高い効率的なスパッタリングに適しています。
ホルミウム(Ho)スパッタリングターゲットパッキング
当社のホルミウム(Ho)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持するために慎重に梱包されています。ターゲットは頑丈な保護包装でお届けします。ディスクまたはカスタムメイドの各製品は、到着時の原状を保証するためにしっかりと梱包されています。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリング・ターゲットは、ターゲット材料から原子を放出し、基板上に堆積させて薄膜を形成する物理蒸着プロセスで使用される材料ソースです。
Q: なぜスパッタリングターゲットは高純度が重要なのですか?
A: 高純度であることで、蒸着膜に汚染物質が含まれないため、最終的なアプリケーションにおいて優れた性能と信頼性を発揮します。
Q: ホルミウム(Ho)スパッタリングターゲットは特注できますか?
A: はい、特定のアプリケーション要件に合わせて、利用可能なサイズと形状をカスタマイズすることができます。
Q: 一般的にどのような産業でホルミウム(Ho)スパッタリングターゲットが使用されていますか?
A: 一般的に半導体製造、光学コーティング、研究所、特殊工業コーティング用途で使用されています。
Q: ターゲットの品質を保つにはどのように保管すればよいですか?
A: 汚染や物理的損傷を防ぐため、ターゲットは清潔で乾燥した環境で、できればオリジナルの保護パッケージに入れて保管することをお勧めします。