ネオジム(Nd)スパッタリングターゲット 説明
ネオジム(Nd)スパッタリングターゲットは、様々な先端産業用途における精密蒸着用に設計された高性能材料です。純度99%以上で製造されたこのターゲットは、DCスパッタリング条件下で信頼性の高い性能を発揮します。標準的なディスク形式でのご提供のほか、特定の設計要件に合わせたカスタムメイドも可能です。その優れたスパッタリング特性により、本製品はエレクトロニクス、光学、半導体製造の用途に最適で、優れた密着性と均一性を備えた高品質で安定した成膜を保証します。
ネオジム(Nd)スパッタリングターゲット用途
- 電子デバイスコンデンサー、センサー、その他の電子部品に使用される薄膜の成膜に不可欠。
- 光学コーティング:レンズやディスプレイ用の光学フィルターや保護膜の製造に利用される。
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクス回路やデバイスに不可欠な高密度で均一な膜を提供する。
- 先端研究材料科学や表面工学の学術・工業研究において信頼性の高い材料として使用される。
ネオジム(Nd)スパッタリングターゲットパッキング
当社のネオジム(Nd)スパッタリングターゲットは、輸送および保管中に原状を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
製品の完全性を確保し、汚染リスクを最小限に抑えるため、真空密封包装のオプションをご用意しています。お客様の特定の出荷要件に基づき、カスタム梱包ソリューションを提供します。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットは何に使うのですか?
A: スパッタリングターゲットは、エレクトロニクス、光学、半導体などの産業において、様々な基板上に薄膜やコーティングを形成する物理蒸着プロセスで使用されます。
Q: DCスパッタリングとはどういう意味ですか?
A: 直流スパッタリングとは、スパッタリング・プロセスに直流電流を使用することで、特にネオジムのような導電性材料に有効で、均一な成膜を実現します。
Q: ネオジムスパッタリングターゲットのカスタムサイズはありますか?
A: はい、ネオジム・スパッタリング・ターゲットは、特定のアプリケーションの要件を満たすために、カスタムサイズでご利用いただけます。
Q: 製造中の高純度(99%以上)はどのように維持されていますか?
A: 製造工程では、厳格な品質管理手段と高度な精製技術を採用し、材料が一貫して99%以上の純度基準を満たす、または上回るようにしています。
Q: 一般的にどのような産業でネオジムスパッタリングターゲットが使用されていますか?
A: エレクトロニクス、光学、半導体製造、先端材料研究などの業界では、高品質の薄膜やコーティングを製造するために、このスパッタリングターゲットを頻繁に使用しています。