チタン（Ti）スパッタリングターゲット 説明
チタン（Ti）スパッタリングターゲットは、高度な工業用スパッタリングアプリケーションで優れた性能を発揮するように設計されています。厳しい品質基準の下で製造されたこのターゲットは、薄膜蒸着プロセスにおいて優れた一貫性、信頼性、効率を保証します。
多用途性を念頭に設計されたチタンターゲットは、標準的なディスク形状でご利用いただけるほか、特定のシステム要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。汚染を最小限に抑え、高純度であることが重要視される環境において卓越した性能を発揮し、半導体製造、光学コーティング、その他の高精度アプリケーションに理想的な選択肢となります。
チタン（Ti）スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造マイクロエレクトロニクスに不可欠な均一な薄膜成膜を実現します。
- 表面コーティング様々な基板の耐摩耗性と耐食性を向上させる。
- 光学コーティング干渉フィルターや高反射ミラーの製造に最適です。
- 先端研究開発材料の純度が最重要視される最先端の実験やプロトタイプ開発に利用される。
チタン（Ti）スパッタリングターゲットパッケージング
当社のチタン（Ti）スパッタリングターゲットは、製品の完全性を維持し、保管中および輸送中の汚染を防止するため、真空密封法により慎重に梱包されています。包装オプションには、1袋5kgまたは1ドラム25kgがあり、お客様の特定の要件に合わせてカスタマイズすることも可能です。
よくある質問
Q: チタン（Ti）スパッタリングターゲットは一般的にどのような産業で使用されていますか？
A: チタン（Ti）スパッタリングターゲットは、半導体製造、光学コーティング、航空宇宙、様々な先端研究用途で広く使用されています。
Q: どのスパッタリングプロセスがこのターゲットと互換性がありますか？
A: このターゲットはDCスパッタリングプロセス用に最適化されていますが、システム構成によってはRFスパッタリングアプリケーションにも適合する場合があります。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか？
A: はい、当社のチタン（Ti）スパッタリングターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定のシステム要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: チタニウム（Ti）スパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A: ターゲットの純度は99%以上であり、蒸着プロセスにおける高い性能と最小限の汚染を保証します。
Q: チタン（Ti）スパッタリングターゲットは、品質を維持するためにどのように保管すればよいですか？
A: 汚染を防ぎ、最適な性能を確保するため、真空密封されたパッケージ内の清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。
