クロム銅(Cr/Cu)スパッタリングターゲット 説明
クロム銅(Cr/Cu)スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着技術において優れた性能を発揮するように設計されています。高純度とカスタマイズ可能な設計に重点を置いて製造されたこの製品は、先端エレクトロニクスと半導体製造に要求される厳しい基準を満たします。クロムと銅のユニークなブレンドは、優れた耐久性と表面の均一性を提供し、精密な膜形成を必要とするアプリケーションに最適です。このターゲットは、要求の厳しい生産環境において信頼性の高い性能を発揮するように設計されており、一貫した高品質の結果を保証します。
クロム銅(Cr/Cu)スパッタリングターゲット用途
- エレクトロニクス製造:半導体デバイスの導電層および相互接続の成膜に使用されます。
- 光学コーティング:様々な基板上の反射膜や反射防止膜の形成に応用される。
- 薄膜蒸着:さまざまな工業部品に均一な機能性コーティングを施すのに適している。
- 先端製造:ハイテク機器の研究・生産における最先端プロセスをサポート。
クロム銅(Cr/Cu)スパッタリングターゲットパッキング
当社のクロム銅スパッタリングターゲットは、お客様の仕様に合わせてカスタム製造され、材料の完全性を保つために細心の注意を払って取り扱われます。
梱包オプションには、真空密閉容器や保護ドラムなどがあり、保管中や輸送中も製品が原状を維持するようにします。
よくある質問
Q: クロム銅スパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A: 製品は99%以上の純度で製造されています。
Q: このスパッタリングターゲットにはどのような形状がありますか?
A: ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定の要件を満たすために特注することもできます。
Q: この製品にはどのようなボンドが使用されますか?
A: 一般的に使用されるボンドは、インジウムとエラストマーです。
Q: クロム銅(Cr/Cu)スパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A: エレクトロニクス製造、半導体製造、光学コーティング、高度な薄膜蒸着プロセスで広く使用されています。
Q: このスパッタリングターゲットの特注サイズを注文したいのですが。
A: カスタマイズのオプションや注文の詳細については、弊社営業チームまでご連絡ください。