クロムモリブデン(Cr/Mo)スパッタリングターゲット 説明
クロムモリブデン(Cr/Mo)スパッタリングターゲットは、高度なスパッタリングプロセス用に設計された高性能材料です。 卓越した純度(99%以上)で製造され、ディスクまたはカスタムメイドの形状で入手可能なこのターゲットは、精密薄膜蒸着用に調整されています。 Cr/Mo組成により、厳しい環境下でも信頼性の高い性能が保証されるため、半導体プロセス、光学コーティング、その他の特殊な産業用途に最適です。インジウムとエラストマー結合を組み込むことにより、スパッタリングプロセス全体を通しての適応性と耐久性を高めています。
クロムモリブデン(Cr/Mo)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体製造および光学コーティング用途に最適。
- コーティング技術:電子機器やディスプレイパネル用の耐久性のある高性能コーティングの製造に使用される。
- 精密エンジニアリング研究開発に必要な高度なスパッタリングプロセスに適しています。
- カスタム産業プロセス:オーダーメイドのターゲット形状がプロセス効率を高める環境において信頼性が高い。
クロムモリブデン(Cr/Mo)スパッタリングターゲットパッキング
当社のクロムモリブデン(Cr/Mo)スパッタリングターゲットは、高純度かつ特殊な形状を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
- コンタミネーションを防ぐため、真空密封包装されています。
- 安全な輸送を確保するため、ご要望に応じて個別包装も承ります。
よくある質問
Q: Cr/Moスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、光学コーティング、その他の精密工業用途における高度な薄膜蒸着プロセスに使用されます。
Q: ターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは円盤状で入手可能であり、また、特定のプロセス要件を満たすために特注することもできます。
Q: Cr/Mo組成は、他の材料と比べてどのような利点がありますか?
A: Cr/Mo組成は、スパッタリングプロセスにおいて高純度と優れた信頼性を提供し、正確で均一な薄膜成膜を保証します。
Q: 輸送中の品質を確保するため、ターゲットはどのように梱包されていますか?
A: ターゲットは、汚染を防ぎ、保管・輸送中の高純度を保つために真空密封されています。
Q: このスパッタリングターゲットにはどのようなボンディングタイプが使用されていますか?
A: このターゲットは、インジウムとエラストマーボンディングを採用しており、様々なスパッタリングアプリケーションにおける性能と適応性を高めています。