クロムチタン(Cr/Ti)スパッタリングターゲット 説明
クロムチタン(Cr/Ti)スパッタリングターゲットは、高精度のスパッタリング蒸着プロセスをサポートするために綿密に開発されました。Cr/Tiの組成と99%以上の純度により、一貫した性能と信頼性が要求される用途向けに調整されています。このターゲットは、明確に定義されたディスク形状で入手できるほか、特定の製造ニーズに合わせてカスタムメイドすることも可能です。その堅牢な配合により、スパッタプロセス中の安定した均一な材料移動が保証され、ハイエンドの工業用途に不可欠な要素となっています。
クロムチタン(Cr/Ti)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着半導体デバイスや光学コーティングに不可欠な均一膜の形成を可能にします。
- 表面コーティング産業機器の耐摩耗性と腐食保護のための高品質コーティングを提供します。
- 電子用途:精度と性能が重要な電子部品の製造に使用される。
- 研究開発材料革新のために信頼性の高いスパッタリングターゲットを必要とする実験セットアップに最適です。
クロムチタン(Cr/Ti)スパッタリングターゲットパッキング
当社のクロムチタン(Cr/Ti)スパッタリングターゲットは、輸送中の品質と完全性を維持するために厳重に梱包されています。標準的な梱包ソリューションには、真空シールされたポーチや、お客様の特定の要件に合わせてカスタマイズされた容器が含まれ、製品の保護と安全な配送を保証します。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットとは、物理蒸着プロセスによって基板上に薄膜を成膜するために使用される固体材料です。
Q: スパッタリングターゲットは主にどのような産業で使用されていますか?
A: スパッタリングターゲットは、半導体製造、光学コーティング、各種電子アプリケーションで一般的に使用されています。
Q: スパッタリングターゲットのサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、さまざまなアプリケーションの特定の要件を満たすために、利用可能なサイズをカスタマイズすることができます。
Q: 純度99%以上とはどのような意味ですか?
A: 純度99%以上のターゲットは、不純物を最小限に抑え、均一で高品質な成膜を実現します。
Q: この製品にはどのような接着剤が使用されていますか?
A: この製品では、スパッタリングプロセス中に信頼性の高い接着と性能を提供するインジウムとエラストマーボンディングの使用を指定しています。