モリブデンクロム(Mo/Cr)スパッタリングターゲットの説明
モリブデンクロム(Mo/Cr)スパッタリングターゲットは、モリブデンとクロムの高純度ブレンドから製造され、純度99%以上のMo/Cr組成を実現しています。半導体製造および薄膜蒸着におけるスパッタリング用途向けに設計されたこのターゲットは、ディスク状で提供されるほか、正確な仕様に合わせたカスタムメイドも可能です。 堅牢な性能により、厳しい使用条件下でも安定した膜質と信頼性の高いスループットを実現します。
モリブデンクロム(Mo/Cr)スパッタリングターゲット用途
- 半導体産業インターコネクト層や導電膜を形成するためのスパッタリング成膜プロセスで利用されています。
- ディスプレイ製造最新のディスプレイ技術用の高品質導電層の形成に使用される。
- 薄膜コーティング:光学、電子、工業用途における耐久性のある高性能コーティングの製造に最適。
- 工業用途:航空宇宙、自動車、その他のハイテク分野における特殊なスパッタリング・プロセスに適している。
モリブデンクロム(Mo/Cr)スパッタリングターゲットの梱包
ターゲットは、保管および輸送中に製品の完全性を保つため、カスタム設計の保護パッケージで安全に梱包されます。オプションには、標準ディスク用の真空密封パッケージや、カスタムメイドのオーダーメイドのソリューションなどがあります。
よくある質問
Q: Mo/Crスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、薄膜蒸着、最新の電子機器やディスプレイの導電層製造に使用されます。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズはどのようなものがありますか?
A: ターゲットは円盤状で入手可能で、お客様の仕様に応じた特注サイズも提供可能です。
Q: なぜ他の材料ではなくMo/Crスパッタリングターゲットを選ぶのですか?
A: Mo/Cr組成は、信頼性の高い薄膜蒸着や高度な産業用途に不可欠な、高純度で安定した性能を提供します。
Q: 製造中の高純度(99%以上)はどのように維持されているのですか?
A: 厳格な品質管理対策と高度な製造技術が生産工程全体にわたって実施され、ターゲットが高純度を達成し維持することを保証します。
Q: 特定の輸送や保管の要件に合わせて包装をカスタマイズできますか?
A: はい、パッケージング・ソリューションは、特定の保管、出荷、またはアプリケーションのニーズに応じて、製品が確実に保護されるようにカスタマイズすることができます。