チタンアルミニウムスパッタリングターゲット 説明
チタン・アルミニウム(Ti/Al)スパッタリングターゲットは、高純度(99%以上)材料を使用して設計されており、薄膜蒸着において卓越した性能を発揮します。インジウムとエラストマーを使用した高度な接合技術により開発されたこのターゲットは、スパッタリングプロセスにおいて強固な密着性と効果的なエネルギー伝達を実現します。
チタン・アルミニウム(Ti/Al)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:電子回路や集積デバイスに使用される薄膜の成膜に不可欠。
- フラットパネルディスプレイディスプレイ部品の製造に信頼性の高い性能を提供。
- 光学コーティング:レンズやミラーの精密コーティングに使用される。
- 太陽電池高品質な成膜により、太陽電池の効率を高める。
- 研究開発:カスタム形状や配合を必要とする実験セットアップに最適。
チタン・アルミニウム(Ti/Al)スパッタリングターゲットパッキング
当社のチタン・アルミニウム(Ti/Al)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。製品は、ターゲットがそのままの状態で到着し、お客様のスパッタリングシステムですぐに使用できるように、真空シールオプションを含むカスタムパッケージングソリューションでご利用いただけます。
よくある質問
Q: チタン・アルミニウム(Ti/Al)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体製造、フラットパネル・ディスプレイ、光学コーティング、太陽電池の薄膜蒸着に使用されます。
Q: カスタムメイドのスパッタリングターゲットはどのように入手できますか?
A: 特注の形状やサイズは、具体的なご要望を弊社サポート・チームにご連絡いただければ手配いたします。
Q: この製品の純度99%以上は何を示していますか?
A: 純度評価は、ターゲット材料が化学組成の高い基準を満たしていることを保証します。
Q: このターゲットは異なるスパッタリングシステムで使用できますか?
A: はい、具体的なスパッタリングパラメータは提供されていませんが、このターゲットは様々なスパッタリング技術で使用できるように設計されています。