バナジウムアルミニウムスパッタリングターゲット 説明
バナジウム・アルミニウム(V/Al)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着プロセス用に設計されており、卓越した均一性と性能を提供します。高純度(99%以上)で製造されたこのターゲットは、精度と耐久性が重要な半導体、ディスプレイ、マイクロエレクトロニクス用途に最適です。最先端の製造技術を駆使した当社のターゲットは、厳しい工業条件下でもコンタミネーションを最小限に抑え、優れた膜質を保証します。
バナジウム・アルミニウム(V/Al)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着集積回路製造用の均一で正確なコーティングを保証します。
- 半導体製造高性能部品に信頼性の高い低抵抗層を提供します。
- 光学コーティング高度な光学用途における反射率と耐久性を向上させます。
- 太陽電池製造高品質フィルムの塗布による効率の向上。
- カスタムアプリケーション特殊な工業プロセスの特殊な要件に対応
バナジウムアルミニウムスパッタリングターゲットパッキング
当社のバナジウムアルミニウム(V/Al)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持するために慎重に梱包されています。オプションには、カスタマイズされた注文に適した柔軟な重量構成の真空密封包装が含まれます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットの組成は?
A: スパッタリングターゲットは、純度99%以上のバナジウム-アルミニウム合金(V/Al)で構成されています。
Q: ターゲットは特注できますか?
A: はい、標準ディスクやその他の特注形状など、お客様の特定の要件に基づいて形状をカスタマイズすることができます。
Q: スパッタリングターゲットにはどのようなボンディングが使用されていますか?
A: ターゲットは、スパッタリングプロセス中の安定性を確保するために、インジウムとエラストマーの結合を利用しています。
Q: バナジウムアルミニウムスパッタリングターゲットはどのような用途に使用できますか?
A: 薄膜蒸着、半導体製造、光学コーティング、その他特殊な工業プロセスで広く使用されています。
Q: ターゲットの高純度は、性能にどのようなメリットをもたらしますか?
A: 高純度(99%以上)であるため、コンタミネーションを最小限に抑えた優れた膜質が保証され、高度な用途において信頼性の高い安定した性能を発揮します。