バナジウムクロムスパッタリングターゲットの説明
バナジウム・クロム(V/Cr)スパッタリングターゲットは、99%以上の純度とスパッタリングプロセスにおける最適な性能を保証するために、厳格な品質管理基準の下で製造されています。高精度の技術で設計され、均一な成膜と優れた密着性を実現し、半導体製造やその他のハイテク用途に不可欠なコンポーネントとなっています。標準的なディスク形状または特注サイズのオプションを提供するこのターゲットは、最も要求の厳しい環境においても汎用性と信頼性を提供します。
バナジウムクロムスパッタリングターゲット用途
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクスデバイスの超薄膜成膜に最適。
- 光学コーティング:反射層および反射防止層の製造に利用される。
- 磁気ストレージデータストレージソリューション用の磁性膜の形成に重要。
- 表面技術耐摩耗性と耐腐食性を向上させる高性能コーティングを実現する。
- 工業用コーティング様々なハイテク産業における装飾および保護コーティングに適している。
バナジウムクロムスパッタリングターゲットパッキング
当社のバナジウムクロムスパッタリングターゲットは、輸送および保管中の完全性を維持するため、防湿、帯電防止材料でしっかりと梱包されています。標準梱包は真空密封オプションで、特定の業界要件を満たすカスタム梱包ソリューションもご要望に応じて提供いたします。
よくある質問
Q: バナジウム・クロム(V/Cr)スパッタリングターゲットはどのような用途に最適ですか?
A: バナジウムクロムスパッタリングターゲットは、半導体、光学コーティング、磁気記憶装置、様々な表面処理プロセスにおける薄膜形成に最適です。
Q: V/Crスパッタリングターゲットの純度はどのように保たれていますか?
A: 製品は厳格な品質管理手順の下で製造され、純度99%以上を保証し、安定した性能を保証しています。
Q: スパッタリングターゲットはカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状の他に、特定の寸法や設計要件に合わせたカスタムメイドも可能です。
Q: ターゲット材料にはどのようなボンドが使用されていますか?
A: ターゲットには、スパッタリング中に最適な密着性と性能を提供するために選択された、インジウムとエラストマーからなる結合を採用しています。
Q: バナジウム・クロム(V/Cr)スパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: 半導体製造、光学、磁気データストレージ、その他様々なハイテク産業分野で当社のスパッタリングターゲットが使用されています。
仕様
仕様
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詳細
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材質
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バナジウム クロム
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組成
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V/Cr
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CAS番号
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該当なし
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純度
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≥99%
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形状
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ディスク、または特注品
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融点
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該当なし
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密度
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該当なし
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スパッタ
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該当なし
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ボンドの種類
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インジウム, エラストマー
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サイズ
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カスタマイズ
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*上記の製品情報は理論値に基づくもので、参考用です。実際の仕様は異なる場合があります。