チタン酸バリウム(BaTiO3)スパッタリングターゲットの説明
チタン酸バリウム(BaTiO3)スパッタリングターゲットは、最新の工業プロセスの厳しい要件を満たすように設計されています。最先端の技術で製造されたこのターゲットは、一貫した微細構造と優れた表面均一性を提供し、スパッタリング蒸着中の信頼性の高い性能を保証します。固有の高誘電率により、コンデンサー、センサー、各種電子デバイスの製造に理想的な選択肢となります。さらに、カスタマイズされた形状が可能なため、特定の設計や用途のニーズに合わせたソリューションを提供することができます。
チタン酸バリウム(BaTiO3)スパッタリングターゲット用途
- 電子機器コンデンサー、センサー、強誘電体デバイスの製造に不可欠。
- 微小電気機械システム(MEMS): 小型化された部品に信頼性の高い性能を提供します。
- コーティング技術:優れた電気特性を持つ薄膜を形成するためのスパッタリング成膜に使用。
- 産業用デバイス:アクチュエーターや変換器などの高精度アプリケーションに適しています。
- 研究開発:先端研究所での新素材やデバイス構造の試作に最適。
チタン酸バリウム(BaTiO3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のチタン酸バリウムスパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持するために慎重に梱包されています。各ターゲットは、損傷を防ぐために帯電防止および緩衝材を使用してしっかりと包装され、非の打ちどころのない状態でお客様のお手元に届くことを保証します。特定の物流および安全要件を満たすために、カスタマイズされた梱包ソリューションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: チタン酸バリウムのスパッタリングターゲットは一般的にどのような産業で使用されていますか?
A: コンデンサー、センサー、MEMSデバイス、様々な薄膜アプリケーションなど、エレクトロニクス産業で広く使用されています。
Q: このターゲットではどのスパッタリング法が適用できますか?
A: このターゲットはRFスパッタリングとDCスパッタリングの両方に対応しています。
Q: チタン酸バリウムターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、標準ディスクに加え、特定のアプリケーション要件に合わせた特注形状も可能です。
Q: 純度レベルはスパッタリングターゲットの性能にどのように影響しますか?
A: 純度99%以上であれば、不純物を最小限に抑えることができ、優れた誘電特性と安定したスパッタリング性能を実現する上で極めて重要です。
Q: スパッタリングターゲットの取り扱いにはどのような注意が必要ですか?
A: 保管中や輸送中の材料の完全性を維持するために、清潔で帯電防止な環境で取り扱い、適切な梱包ガイドラインに従うことをお勧めします。