酸化ベリリウム(BeO)スパッタリングターゲット 説明
酸化ベリリウム(BeO)スパッタリングターゲットは、高精度スパッタリングアプリケーションにおいて卓越した性能を発揮するように設計されています。 最先端のプロセスを用いて製造されたこのターゲットは、厳格な工業規格に適合する一貫した品質を保証します。
このスパッタリングターゲットは、優れた熱伝導性と優れた耐火特性を提供するように設計されており、厳しい環境下での性能維持に不可欠です。高純度(99%以上)でカスタマイズ可能な形状により、特定の要件に合わせることができ、さまざまな高度な用途で最適な性能を発揮します。
酸化ベリリウム(BeO)スパッタリングターゲット用途
- エレクトロニクス製造:半導体デバイスやその他のマイクロエレクトロニクス部品の薄膜成膜に不可欠。
- 精密コーティング高い熱安定性と制御された膜特性を必要とする用途で、均一なスパッタリングを実現します。
- センサー製造:優れた電気絶縁性と機械的安定性により、高性能センサーの製造に最適。
- 先端研究:高熱伝導性と高純度の材料を必要とする様々な研究用途に使用されます。
酸化ベリリウム(BeO)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ベリリウム(BeO)スパッタリングターゲットは、材料の完全性と純度を維持するために慎重に梱包されています。各ターゲットは、保管中および輸送中の汚染や物理的損傷を防ぐため、保護パッケージにしっかりと梱包されています。特定の物流要件に合わせたカスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: BeOスパッタリングターゲットを使用する主な利点は何ですか?
A: 主な利点には、卓越した熱伝導性、高い耐火性、優れた純度などがあり、これらは精密なスパッタリング・プロセスに不可欠です。
Q: BeOスパッタリングターゲットの高純度(99%以上)はどのように維持されていますか?
A: 製造工程には厳格な品質管理対策と高度な冶金技術が組み込まれており、各ターゲットは要求の厳しい用途に要求される高純度基準を満たしています。
Q: BeOスパッタリングターゲットはカスタム形状で製造できますか?
A: はい、標準的なディスク形状の他に、お客様の特定の寸法や用途の要件を満たすカスタムメイドのオプションも提供しています。
Q: BeOスパッタリングターゲットはどのような産業でよく利用されていますか?
A: BeOスパッタリングターゲットは、エレクトロニクス、半導体産業、センサー製造、精密コーティング、先端材料研究などで広く使用されています。
Q: BeO材料の特別な取り扱い方法はありますか?
A: はい、ベリリウム化合物は吸い込むと健康に害を及ぼす可能性があるため、取り扱いや処理の際には、個人用保護具の使用や産業安全プロトコルの遵守など、適切な安全ガイドラインに従うことが重要です。