酸化セリウム(CeO2)スパッタリングターゲット 説明
酸化セリウム(CeO2)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着アプリケーション用に設計された高性能材料です。最先端の製造方法で製造されたこのターゲットは、スパッタリング中の均一なエネルギー分布と一貫した膜質を保証します。その優れた熱安定性と耐酸化性により、特に半導体、光学、セラミックスなどの用途に適しています。 カスタマイズされた形状とサイズにより、様々な蒸着システムへの汎用的な統合が可能となり、要求の厳しい産業環境において信頼性の高い効率的な性能を発揮します。
酸化セリウム(CeO2)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体デバイスや光学コーティングに最適です。
- 表面改質:耐摩耗性を高め、腐食防止を提供します。
- 先端コーティング触媒担体、センサー、エネルギー・デバイスの表面加工に利用される。
- オプトエレクトロニクスディスプレイや太陽電池の製造に応用される。
酸化セリウム(CeO2)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化セリウム(CeO2)スパッタリングターゲットは、輸送中および保管中の完全性を確保するために慎重に梱包されています。通常、真空密封されるか、または構成とサイズの要件に合わせて特別に設計されたカスタムモールドパッケージで固定されます。
よくある質問
Q: 酸化セリウム(CeO₂)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体、光学、ハイテクコーティング用途の薄膜蒸着に使用されます。
Q: どのスパッタリング法がこのターゲットと互換性がありますか?
A: ターゲットはRFおよびRF-Rスパッタリングプロセスに最適化されています。
Q: ターゲットのサイズや形状を特注できますか?
A: はい、ターゲットは標準ディスクやその他の特注構成を含むカスタマイズされたサイズでご利用いただけます。
Q: 99%以上の純度レベルは性能にどのように影響しますか?
A: 高純度レベルは、成膜プロセス中の不純物を最小限に抑えることにより、安定したスパッタリング性能と優れた膜質を保証します。
Q: このスパッタリングターゲットを使用することで、どのような産業が最も恩恵を受けますか?
A: 半導体製造、光学、セラミックス、先端コーティング用途などの業界では、その精度と高性能の特性から大きな恩恵を受けています。