酸化エルビウム (Er2O3) スパッタリングターゲット 説明
酸化エルビウム(Er2O3)スパッタリングターゲットは、物理蒸着プロセス用の高純度性能を提供するように設計されています。 高度な製造技術で製造されたこのターゲットは、エレクトロニクス、光学、および半導体分野の薄膜アプリケーション用の安定したスパッタリング性能を保証します。優れた熱安定性と高融点により、要求の厳しい産業環境に最適で、効率的な蒸着と最小限の汚染を保証します。
酸化エルビウム(Er2O3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:回路基板、ディスプレイ、ソーラーパネルなどのコーティング用途に不可欠。
- 半導体製造集積回路用の高品質膜を提供。
- オプトエレクトロニクス光学機器やセンサーの製造に使用される。
- 先端コーティング:耐食性、耐摩耗性表面の開発に最適。
酸化エルビウム(Er2O3)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化エルビウム(Er2O3)スパッタリングターゲットは、輸送中の製品の完全性を保つために慎重に梱包されています。真空密封包装は、お客様の特定の要件を満たすためにカスタマイズ可能なサイズでご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットに酸化エルビウムを使用する主な利点は何ですか?
A: 酸化エルビウムは、優れた熱安定性、高純度、信頼性の高い性能を提供し、様々な用途で高品質の薄膜を実現するために不可欠です。
Q: ターゲットはどのスパッタリング技術に適合しますか?
A: ターゲットはRFおよびRF-Rスパッタリング法用に設計されており、さまざまな成膜システムとの汎用性を確保しています。
Q: 特注の形状やサイズは可能ですか?
A: はい、このターゲットはディスク形状で入手可能であり、お客様の特定の要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: 酸化エルビウムスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: エレクトロニクス、半導体製造、オプトエレクトロニクス、先端コーティングなどの業界は、その高い性能と信頼性から利益を得ています。
Q: 梱包はどのようにしてスパッタリングターゲットの品質を保証するのですか?
A: 製品は、保管・輸送中も高純度と完全性を維持するために真空密封されており、最適な状態でお客様のお手元に届くようになっています。