酸化インジウム鉄(InFe2O4)スパッタリングターゲット 説明
酸化インジウム鉄(InFe2O4)スパッタリングターゲットは、先端材料アプリケーションの精密蒸着用に設計されています。高純度InFe₂O₄組成で作られたこのターゲットは、RFおよびDCスパッタリングプロセスの両方で一貫した性能を発揮します。信頼性の高い品質とカスタマイズ可能なフォーマットにより、半導体製造、光学コーティング、研究所での薄膜蒸着に理想的な選択肢となっています。インジウムとエラストマーのユニークな結合は、密着性と熱安定性を高め、スパッタリング作業中の最適な性能を保証します。
酸化インジウム鉄(InFe2O4)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体デバイス製造および光学コーティング用途に最適です。
- 電子デバイスセンサー、ディスプレイ、その他の高度な電子機器の製造に利用されています。
- 研究所材料科学やナノテクノロジーの実験セットアップに最適。
- コーティングプロセス:耐摩耗性や耐腐食性のために、さまざまな基板上に均一な膜を成膜するために使用される。
酸化インジウム鉄(InFe2O4)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化インジウム鉄スパッタリングターゲットは、その高純度と構造的完全性を維持するために慎重に梱包されています。標準的な梱包には、ディスク用の真空密封容器が含まれ、特定のお客様の要件を満たすカスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: このターゲットではどのようなスパッタリング法が使用できますか?
A: このスパッタリングターゲットは、RFスパッタリングとDCスパッタリングの両方のプロセスに対応しています。
Q: 酸化鉄インジウム組成の純度はどのくらいですか?
A: 純度99%以上です。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準ディスクとして入手可能ですが、特定の要件に合わせて特注することもできます。
Q: このターゲットはどのような用途に適していますか?
A: 半導体製造、光学コーティング、電子デバイス、材料研究における薄膜蒸着に最適です。
Q: ユニークな結合(インジウム、エラストマー)はスパッタプロセスにどのように役立ちますか?
A: インジウムとエラストマーの結合は、優れた接着性と熱安定性を保証し、安定したスパッタリング性能と高品質の成膜に貢献します。