酸化インジウム亜鉛(IZO)スパッタリングターゲット 説明
インジウム亜鉛酸化物(IZO)スパッタリングターゲットは、様々な成膜プロセスにおいて卓越した性能を発揮するように設計されています。 In2O3/ZnOの高純度組成で製造されたこのターゲットは、薄膜アプリケーション用のRFおよびDCスパッタリングシステムの両方で一貫した信頼性の高い結果を提供します。ディスクや特別に設計された形状など、カスタマイズされた形状での供給が可能で、オプトエレクトロニクス、ディスプレイ技術、半導体産業における特殊な要件に対応します。
酸化インジウム亜鉛(IZO)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:ディスプレイやタッチスクリーンに使用される高品質の透明導電性コーティングの作成に最適です。
- オプトエレクトロニクス:LEDパネル、フラットパネルディスプレイ、スマートデバイスの製造に不可欠。
- 半導体デバイスエネルギー効率の高い電子部品の製造に優れた性能を発揮。
- 太陽電池:精密な薄膜塗布により、太陽電池の効率と耐久性を高める。
- 機能性コーティング精密デバイス製造のための優れた電気的・光学的特性を提供します。
酸化インジウム亜鉛(IZO)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化インジウム亜鉛(IZO)スパッタリングターゲットは、その高純度と性能を維持するために厳重に梱包されています。保管および輸送中の最適な状態を確保するため、防湿および静電気管理された梱包でお届けします。特殊な要件には、カスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: 酸化インジウム亜鉛(IZO)スパッタリングターゲットの典型的な用途は何ですか?
A: 光電子デバイス、半導体部品、ディスプレイ技術の薄膜蒸着によく使用されます。
Q: ターゲットはカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは特定の用途のニーズに合わせて形状やサイズをカスタマイズして製造することができます。
Q: このターゲットと互換性のあるスパッタリング法は?
A: このターゲットはRFおよびDCスパッタリングプロセス用に設計されており、様々な成膜システムとの汎用性を確保しています。
Q: スパッタリングターゲットの組成を教えてください。
A: ターゲットはIn2O3とZnOの高純度ブレンドで構成されており、純度99%以上の卓越した性能を保証します。
Q: 品質保持のため、ターゲットはどのように梱包されていますか?
A: 防湿・静電気管理された容器に梱包され、保管・輸送中の品質保持のため、さらにカスタマイズすることも可能です。