アルミン酸ランタン(LaAlO3)スパッタリングターゲット 説明
ランタンアルミネート(LaAlO3)スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着プロセスで優れた性能を発揮するように設計されています。 高純度(99%以上)で高精度に製造され、RF、RF-R、DCスパッタリング技術での使用に最適化されています。融点~2080℃、密度~6.52g/cm³のこのターゲットは、ハイテク用途において一貫した信頼性の高い結果を提供します。その優れた材料特性から、高い熱安定性と性能が重要な半導体デバイス、光学コーティング、エネルギー用途に最適です。
ランタンアルミネート(LaAlO3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびディスプレイ産業における高品質の誘電体および絶縁膜の形成に最適です。
- 先端エレクトロニクス:コンデンサー、センサー、および精密な膜の均一性を必要とするその他の電子部品の製造に使用されます。
- 光学コーティング優れた透明性と耐光劣化性を持つ光学部品の製造に適している。
- エネルギー用途:エネルギー効率の高いデバイスや高度なエネルギー貯蔵システムの開発に応用される。
ランタンアルミネート(LaAlO3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のランタンアルミネートスパッタリングターゲットは、高純度と品質を維持するために細心の注意を払って製造・梱包されています。ターゲットは標準的なディスク形状で提供され、特定の産業要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。各ユニットは、保管および輸送中の保護を確実にするため、しっかりと梱包されています。
よくある質問
Q: アルミン酸ランタンスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に、高い熱安定性と純度が不可欠なエレクトロニクス、光学、エネルギーデバイスの薄膜蒸着に使用されます。
Q: どのスパッタリング法がこのターゲットに適合しますか?
A: ターゲットはRF、RF-R、DCスパッタリングプロセスに最適化されています。
Q: アルミン酸ランタン(LaAlO3)スパッタリングターゲットの純度を教えてください。
A: 純度99%以上で製造されています。
Q: ターゲットはディスク以外の形状でも製造できますか?
A: はい、特定のアプリケーション要件を満たすカスタムメイドのターゲットが可能です。
Q: このスパッタリングターゲットの主な物理的特性は何ですか?
A: 融点は~2080℃、密度は~6.52g/cm³で、高温用途で優れた性能を発揮します。