マンガン酸ランタンカルシウム (La0.67Ca0.33MnO3) スパッタリングターゲット 説明
マンガン酸ランタンカルシウム(La0.67Ca0.33MnO3)スパッタリングターゲットは、高度な薄膜蒸着アプリケーション用に設計されています。 La2O3、Mn3O4、CaOの正確なブレンドで製造されたこのターゲットは、厳しいスパッタリング条件下で安定した性能を保証します。その高純度と制御された微細構造により、研究および産業環境の両方において信頼性の高い成膜が可能です。RF、RF-R、DCスパッタリングシステムに適合するように設計されており、均一な膜質と優れた密着特性を実現します。
マンガン酸ランタンカルシウム(La0.67Ca0.33MnO3)スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイス製造電子部品の高品質薄膜作製に最適。
- 光学コーティング精密な光学フィルター、ミラー、その他の部品の製造に使用される。
- ディスプレイ技術LCDやOLEDパネルの成膜プロセスをサポート。
- 先端研究材料科学研究や実験用途に安定した性能を提供。
- 工業用コーティング様々な産業の保護膜や機能性コーティングに優れた膜均一性を提供します。
マンガン酸ランタンカルシウム(La0.67Ca0.33MnO3)スパッタリングターゲット包装
当社のスパッタリングターゲットは、原始的な状態で到着するよう細心の注意を払って梱包されています。標準的なディスク形式またはカスタムメイドの構成で提供され、輸送中も高品質を維持するために管理された条件下で出荷されます。
よくある質問
Q: このターゲットと互換性のあるスパッタリング技術は何ですか?
A: このターゲットはRF、RF-R、DCスパッタリングシステムと互換性があり、様々な薄膜成膜プロセスに汎用性があります。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズを特注できますか?
A: はい、標準ディスクとして入手可能です。また、特定のアプリケーション要件に合わせてカスタムメイドすることも可能です。
Q: La2O3 / Mn3O4 / CaOの組成はスパッタプロセスにどのように役立ちますか?
A: 正確な組成により、高純度と制御された微細構造が保証され、安定した膜質、安定した成膜条件、性能の向上が実現します。
Q: 一般的にどのような産業でランタンカルシウムマンガン酸塩スパッタリングターゲットが使用されていますか?
A: 半導体製造、光学コーティング製造、ディスプレイ技術、先端研究用途で広く使用されています。
Q: 1400-1500℃という高い融点はスパッタリング用途にどのように有利ですか?
A: 高い融点は、スパッタリング中の優れた熱安定性を保証し、ターゲットが性能を損なうことなく高出力動作に対応することを可能にします。