酸化ランタン (La2O3) スパッタリングターゲット 説明
酸化ランタン(La2O3)スパッタリングターゲットは、高度なスパッタリングアプリケーションにおける高精度と高性能のために設計されています。 純度99%以上で製造されたこのターゲットは、コンタミネーションを最小限に抑え、蒸着プロセスにおける卓越した一貫性を保証します。標準的なディスク形状またはカスタムメイドのソリューションとして利用可能なその堅牢な設計は、半導体製造から薄膜コーティングに至るまで、業界の多様なニーズを満たします。この材料の優れた熱安定性とユニークな物理的特性は、研究・工業の両分野で不可欠なコンポーネントとなっている。
酸化ランタン(La2O3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:高品質の光学コーティングや半導体層の形成に最適。
- エレクトロニクス様々な電子部品の製造に使用され、性能を向上させる。
- アドバンストセラミックス耐火物や高温セラミック材料の製造をサポート。
- 研究開発学術および産業研究所の実験用スパッタリングに信頼性の高い性能を提供します。
- 表面工学:保護膜や機能性表面の開発に使用。
酸化ランタン(La2O3)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ランタン(La2O3)スパッタリングターゲットは、高純度と構造的完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。オプションとして、お客様の仕様に合わせた防湿包装や真空密封包装があり、安全な保管と輸送を保証します。
よくある質問
Q: このLa₂O₃ターゲットはどのようなスパッタリング法に適合しますか?
A: RF、RF-R、DCスパッタリングプロセスに適しており、様々な成膜技術に柔軟に対応できます。
Q: なぜスパッタリングターゲットでは高純度(99%以上)が重要なのですか?
A: 高純度は成膜中の汚染リスクを最小限に抑え、製造される薄膜が最適な物理的・化学的特性を持つことを保証します。
Q: 特注の形状やサイズのターゲットは入手できますか?
A: はい、標準的なディスク形状に加え、お客様のご要望に応じたカスタムメイドも可能です。
Q: 酸化ランタンスパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体製造、光学コーティング製造、先端セラミック、研究所などで広く使用されています。
Q: 出荷時にターゲットが無傷であることをどのように保証していますか?
A: 当社のターゲットは、輸送中の環境要因や機械的損傷から保護するため、耐湿性のある真空密封された方法で梱包されています。