酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲット 説明
酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲットは、高度な産業用途向けに設計された高性能材料です。最高純度基準(99%以上)で製造され、カスタマイズされたディスク形状で入手可能なこのターゲットは、RF、RF-R、DCを含む様々なスパッタリング技術用に特別に設計されています。安定した化学組成と優れた物理的特性により、スパッタリング工程で最適な性能を発揮するため、電子部品製造、光学コーティング、その他の精密用途に最適です。
酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲット用途
- 半導体デバイス電子および半導体産業における高品質薄膜の製造に不可欠。
- 光学コーティングレンズや光学機器用の均一で耐久性のあるコーティングの成膜に使用される。
- 表面処理:スパッタリングプロセスで使用され、表面特性を高め、密着性を向上させる。
- 研究開発先端材料研究やナノテクノロジーの実験セットアップに最適です。
- 工業生産:さまざまな産業分野での高精度コーティング用途に適しています。
酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の完全性を維持するために厳重に梱包されています。
真空シール包装です:1袋5kgまたは1ドラム25kgのオプションがあり、お客様のニーズに合わせてカスタマイズ可能です。
よくある質問
Q: 酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に半導体デバイス製造、光学コーティング、様々な薄膜蒸着プロセスで使用されます。
Q: このターゲットと互換性のあるスパッタリング方法は?
A: このターゲットはRF、RF-R、DCスパッタリング法に対応しており、用途の多様性を保証しています。
Q: ターゲットの純度はスパッタリング性能にどのように影響しますか?
A: 純度99%以上で成膜時のコンタミネーションを最小限に抑え、高品質で均一な薄膜が得られます。
Q: ターゲットは特定のサイズや形状にカスタマイズできますか?
A: はい、酸化鉛(PbO)スパッタリングターゲットはディスク状で入手可能です。
Q: ターゲットの適切な取り扱いと保管にはどのような注意が必要ですか?
A: ターゲットは、その完全性と性能を長期間維持するために、真空密閉された管理された環境で保管する必要があります。