チタン酸ランタンジルコニウム鉛スパッタリングターゲットの説明
チタン酸ランタンジルコニウム鉛スパッタリングターゲットは、先進のセラミック加工法を用いて設計されており、薄膜蒸着において卓越した性能を発揮します。高純度と安定性のために最適化された組成を持つこのターゲットは、コンデンサー、センサー、圧電トランスデューサー、メモリーデバイスの製造に最適です。その安定した品質は、ハイテク産業における厳しい使用条件下でも信頼できる性能を保証します。
チタン酸ランタンジルコニウム鉛スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:キャパシタ、センサー、トランスデューサーを含むマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に不可欠。
- 強誘電体デバイス:不揮発性メモリデバイスや圧電用途に広く使用されている。
- 表面コーティング:半導体製造において、高品質で均一な膜を形成するために使用される。
- 研究開発:先進的な材料特性を探求するための学術的および産業的な研究開発に使用される。
チタン酸ランタンジルコニウム鉛スパッタリングターゲット パッケージング
当社のチタン酸ジルコニウム鉛スパッタリングターゲットは、高純度と性能を維持するために包装されています。
真空シール包装:1袋5kgまたは1ドラム25kgのオプションがあり、汚染のない安全な輸送を保証します。
よくある質問
Q: チタン酸ランタンジルコニウム鉛スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に、マイクロエレクトロニクス部品、強誘電体デバイス、および高度なセンサー・アプリケーションを製造するための薄膜蒸着プロセスで使用されます。
Q: ターゲットの高純度(99%以上)は性能にどのように影響しますか?
A: 高純度は、最適な電気的・機械的特性を保証し、高精度薄膜やマイクロエレクトロニクス・アプリケーションの信頼性と性能の向上につながります。
Q: このスパッタリングターゲットはカスタム形状やカスタムサイズが可能ですか?
A: はい、この製品は標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定の要件を満たすために特注することもできます。
Q: このスパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A: 半導体、マイクロエレクトロニクス、研究分野、また高度な強誘電体材料を必要とする用途で広く使用されています。
Q: このターゲットを使用したスパッタリングプロセスでは、どのような点に注意すべきですか?
A: ターゲットの高い熱安定性を考慮し、それに応じてスパッタリングパラメーターを調整することで、最適な膜質と効率的な材料利用が可能になります。