ニオブ酸リチウム(LiNbO₃)スパッタリングターゲット 説明
ニオブ酸リチウム(LiNbO₃)スパッタリングターゲットは、薄膜蒸着における高性能アプリケーション向けに設計されています。精密に製造され、高純度レベル(99%以上)を特徴とし、特定のアプリケーション要件を満たすためにディスクまたはカスタムメイドの形状で製造することができます。融点1253℃、密度4.64g/cm³のこのターゲットは、RFおよびRF-Rスパッタリングプロセスにおいて優れた熱安定性を維持します。その信頼性の高い性能により、エレクトロニクス、フォトニクス、光学デバイス製造分野における重要な用途に最適です。
ニオブ酸リチウム(LiNbO₃)スパッタリングターゲット用途
- 光デバイス変調器、導波路、その他の光学部品の製造に不可欠。
- 電気通信:正確な周波数変換と高速信号処理を必要とするデバイスに使用されます。
- 圧電デバイス:ニオブ酸リチウムのユニークな電気機械特性により、センサーやアクチュエーターに不可欠。
- 非線形光学用途:音響光学変調器や非線形光学特性を利用したデバイスに適している。
- 研究開発:科学研究において、実験的薄膜蒸着や材料科学研究に広く使用されている。
ニオブ酸リチウム(LiNbO₃)スパッタリングターゲットパッキング
当社のニオブ酸リチウムスパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の最適な保存と保護を保証するために慎重に梱包されています。製品は、お客様の様々な仕様に対応するため、重量とサイズのオプションをカスタマイズした真空密封容器でお届けします。
よくある質問
Q: ニオブ酸リチウムスパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: 主に光学機器、通信部品、圧電センサー、その他のハイテク用途の製造のための薄膜蒸着プロセスで使用されます。
Q: このターゲットではどのスパッタリング法が使用できますか?
A: このターゲットはRFおよびRF-Rスパッタリングプロセス用に設計されており、様々な成膜技術に柔軟に対応できます。
Q: 99%以上の純度レベルは性能にどのような影響を与えますか?
A: 高純度レベルは、不純物や欠陥を最小限に抑え、要求の厳しい産業用途において一貫した信頼性の高い性能を保証します。
Q: 特定のアプリケーションのニーズに対して、特注のサイズや形状は可能ですか?
A: はい、ターゲットは、お客様のプロジェクトの正確な要件に合わせて、ディスクを含む様々な形状で特注することができます。
Q: 1253℃の高融点はどのような利点がありますか?
A: 融点が高いため、スパッタリング中の熱安定性に優れ、高エネルギー条件下でのターゲット材料の劣化を防ぐことができます。