酸化ルテチウム (Lu2O3) スパッタリングターゲット 説明
酸化ルテチウム(Lu2O3)スパッタリングターゲットは、高純度(99%以上)と優れた熱特性を保証するために、厳格な製造プロセスを用いて設計されています。このターゲットは、標準的なディスク形状またはカスタムメイドの形状で提供され、スパッタリング蒸着プロセスの厳しい要件を満たすように設計されています。2490℃の優れた融点と9.42g/cm³の密度は、高温・高真空環境での確実な性能を可能にし、先端技術用途に理想的な選択です。
酸化ルテチウム (Lu2O3) スパッタリングターゲット用途
- スパッタリング蒸着:マイクロエレクトロニクスおよび先端コーティングの薄膜蒸着に最適です。
- マイクロエレクトロニクス:半導体製造およびデバイス製造に不可欠。
- 光学コーティング光学部品の性能と耐久性を向上させます。
- 先端材料研究高温・高真空の実験セットアップに適している。
酸化ルテチウム(Lu2O3)スパッタリングターゲットパッケージング
酸化ルテチウム(Lu2O3)スパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の品質保持を確実にするため、細心の注意を払って梱包されています。 特定のお客様のご要望にお応えするため、カスタム梱包オプションもご利用いただけます。通常、汚染を防止し、最適な取り扱いを確実にするため、堅牢な真空密閉容器を採用しています。
よくある質問
Q: 酸化ルテチウムスパッタリング・ターゲットの主な用途は何ですか?
A: このターゲットは、主にマイクロエレクトロニクス、光学コーティング、および先端材料研究の用途のスパッタリング蒸着プロセスで使用されます。
Q: 酸化ルテチウムスパッタリング・ターゲットの純度はどのくらいですか?
A: ターゲットは99%以上の純度で製造され、精密用途での高い性能を保証します。
Q: ターゲットはディスク以外の形状で特注できますか?
A: はい、標準的なディスクに加え、特殊な設計要件を満たすためにターゲットをカスタムメイドすることができます。
Q: 2490℃の高融点はスパッタリングプロセスにどのように役立ちますか?
A: 2490℃の高融点は、ハイパワースパッタリング時の優れた熱安定性を保証し、基板へのダメージを低減し、安定した膜質を維持します。
Q: どのような保管・包装方法が推奨されますか?
A: ターゲットは、管理された乾燥環境で保管する必要があります。通常、出荷時の汚染を防ぐために真空密閉容器に梱包されます。