酸化モリブデン（MoO₃）スパッタリングターゲットの説明
酸化モリブデン（MoO₃）スパッタリングターゲットは、重要な産業用途における高性能スパッタリングプロセス用に設計されています。 厳密な基準に従って製造されたこのターゲットは、高度な薄膜蒸着に優れた一貫性と純度を提供します。その堅牢な特性により、半導体製造、ディスプレイ製造、各種コーティング技術に最適です。
酸化モリブデン（MoO₃）スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造集積回路やマイクロエレクトロニクスデバイスに不可欠な均一な薄膜を提供します。
- ディスプレイ技術透明導電膜やその他のディスプレイ部品の成膜に使用されます。
- 表面コーティング：工業用途の耐食性・耐摩耗性コーティングに最適。
- 研究開発：高度な材料研究や新しいコーティングプロセスの実験セットアップに使用される。
酸化モリブデン（MoO₃）スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化モリブデン（MoO₃）スパッタリングターゲットは、品質と性能を維持するために慎重に梱包されています。
真空密封包装により、保管および輸送中の保護が保証されます。 ご要望に応じて、カスタム包装オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか？
A: スパッタリングプロセスで使用される材料ソースで、ターゲットに高エネルギー粒子を衝突させて基板上に薄膜を堆積させます。
Q: なぜMoO₃がスパッタリングターゲットに使用されるのですか？
A: MoO₃は高純度、化学的安定性、優れたスパッタリング性能を備えており、精密なコーティング用途に理想的です。
Q: 「RFスパッタ」とはどういう意味ですか？
A: RFスパッタリングとは、高周波エネルギーを使用してスパッタリングプロセス用のプラズマを生成することを指し、絶縁性または導電性の低いターゲットに適しています。
Q: ターゲットはカスタマイズできますか？
A: はい、ターゲットはディスクまたは特定の産業要件に応じたカスタムメイドの形状で入手可能です。
Q: MoO₃の密度は性能にどのように影響しますか？
A: 4.69 g/cm³の密度は、安定したスパッタリング速度と最適な膜質を保証し、信頼性の高い実験および生産結果に貢献します。
