酸化ネオジム(Nd2O3)スパッタリングターゲットの説明
酸化ネオジム(Nd₂O₃)スパッタリングターゲットは、最低純度99%で製造され、高度な産業用途で優れた性能を発揮するように設計されています。最先端の製造技術を使用して製造されたこのターゲットは、RF、RF-R、およびDCメソッドによる信頼性の高いスパッタリング特性を提供します。その高い融点とユニークなボンディングオプションは、優れた安定性と耐久性を保証し、マイクロエレクトロニクスデバイス製造、薄膜蒸着、表面エンジニアリングプロセスに理想的な選択肢となります。
酸化ネオジム(Nd2O3)スパッタリングターゲット用途
- 集積回路製造:最新のマイクロエレクトロニクス回路における高品質Nd₂O₃膜の成膜を可能にする。
- 薄膜コーティング:装飾、保護、光学コーティングの製造に広く使用。
- 光学デバイス:高性能光学部品やレーザーシステムの製造に適している。
- 科学研究:先端材料研究や実験用スパッタリングセットアップに使用される。
酸化ネオジム(Nd2O3)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ネオジム(Nd₂O₃)スパッタリングターゲットは、その高純度と性能を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
真空密封包装は、特定のお客様やアプリケーションの要件を満たすためにカスタマイズ可能なオプションでご利用いただけます。
よくある質問
Q: このターゲットと互換性のあるスパッタリング方法は何ですか?
A: RF、RF-R、DCスパッタリングプロセスに対応しています。
Q: Nd₂O₃スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか?
A: マイクロエレクトロニクス、薄膜コーティング、光学デバイス、科学研究に広く使用されています。
Q: ターゲットの高純度はどのように維持されていますか?
A: 高度な製造工程と厳格な品質管理により、純度99%以上を維持しています。
Q: ターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットはディスクとして提供することも、特定の要求に合わせてカスタマイズすることも可能です。
Q: なぜ高融点が重要なのですか?
A: 2233℃の高い融点は、高温スパッタリングアプリケーションにおける安定性と耐久性を向上させます。