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  • ST0179 酸化ニッケル（NiO）スパッタリングターゲット

    • ST0179 酸化ニッケル（NiO）スパッタリングターゲット

    カタログ番号 ST0179
    構成 NiO
    CAS番号 1313-99-1
    純度 ≥99%
    形状 ディスク、オーダーメイド
    直径 2インチ、3インチ、4インチ、5インチ、6インチ、またはカスタマイズ
    厚さ 0.25インチ、0.125インチ、またはカスタマイズ
    債券の種類 銅、またはカスタマイズ

    酸化ニッケル（NiO）スパッタリングターゲットは、要求の厳しいスパッタリング用途において、その高純度と一貫した性能で認められています。先端材料ソリューションのリーダーであるスタンフォードアドバンストマテリアルズ社は、革新的な技術と厳格な品質管理を組み合わせ、業界標準を超える製品をお届けしています。

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    Aluminum (Al) Sputtering Target
    ST0001 アルミニウム（Al）スパッタリングターゲット
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    Barium (Ba) Sputtering Target
    ST0003 バリウム（Ba）スパッタリングターゲット
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    ST0005 ホウ素（B）スパッタリングターゲット
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    Cadmium (Cd) Sputtering Target
    ST0006 カドミウム（Cd）スパッタリングターゲット
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    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 カルシウム（Ca）スパッタリングターゲット
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    Chromium (Cr) Sputtering Target
    ST0009 クロム（Cr）スパッタリングターゲット
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    Cobalt (Co) Sputtering Target
    ST0010 コバルト（Co）スパッタリングターゲット
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    Copper (Cu) Sputtering Target
    ST0011 銅（Cu）スパッタリングターゲット
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      • Other
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      2''

      • 2''
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      • 5''
      • 6''
      • その他
      • Other
      厚さ

      0.25''

      • 0.25''
      • 0.125''
      • すべて
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