マンガン酸プラセオジムカルシウム(Pr0.7Ca0.3MnO3)スパッタリングターゲット 説明
プラセオジムマンガン酸カルシウム(Pr0.7Ca0.3MnO3)スパッタリングターゲットは、高い耐久性と精度を必要とする高度な産業用途向けに設計されています。99%以上の純度で製造されたこのターゲットは、RF、RF-R、およびDCスパッタリング法による薄膜蒸着において信頼性の高い性能を発揮します。カスタマイズ可能なサイズと、インジウムやエラストマーを含む多彩な接合オプションにより、研究および生産環境に最適な選択肢となっています。この材料の堅牢な物理的特性は、厳しい処理条件下での最適な動作を保証します。
プラセオジムマンガン酸カルシウム(Pr0.7Ca0.3MnO3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体およびマイクロエレクトロニクス産業における高品質コーティングの製造に最適です。
- 表面技術光学、磁気、保護コーティング用の精密で均一な層の形成に適しています。
- 材料研究:新しい特性や機能的用途を探求する先端材料研究に使用される。
- 工業用コーティング:様々な工業部品の耐摩耗性、耐腐食性コーティングの製造に使用される。
プラセオジムマンガン酸カルシウム(Pr0.7Ca0.3MnO3)スパッタリングターゲットの包装
当社のスパッタリングターゲットは、高純度と構造的完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。輸送中の破損を防ぐため、各ユニットはしっかりと包装され、クッション材が入っています。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットは何に使用されますか?
A: スパッタリングターゲットは物理蒸着(PVD)プロセスで使用され、様々な基板上に薄膜やコーティングを形成します。
Q: このターゲットを使ったスパッタリングプロセスはどのように行われるのですか?
A: スパッタリング・プロセスでは、イオンがターゲット材料に衝突し、原子を基板上に放出・堆積させ、薄く均一な膜を形成します。このターゲットはRF、RF-R、DCスパッタリング法に対応しています。
Q: なぜスパッタリングターゲットでは高純度(99%以上)が重要なのですか?
A: 高純度であることにより、コンタミネーションが最小限に抑えられ、膜質の向上、密着性の改善、成膜性能の向上につながります。
Q: カスタマイズしたスパッタリングターゲットを注文する場合、何を考慮すべきですか?
A: カスタマイズターゲットを注文する際には、最適な成膜性能を確保するために、必要な寸法、ボンディングタイプ(インジウム、エラストマー)、スパッタリング装置との互換性を考慮してください。
Q: 使用前のスパッタリングターゲットの保管方法を教えてください。
A: スパッタリングターゲットは、使用前の完全性を維持し、汚染を防ぐために、温度と湿度が管理された清潔で乾燥した環境で保管することをお勧めします。