Name: ST0187 クロム添加一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲット
Brand: Stanford Advanced Materials (SAM)
SKU: ST0187
Availability: InStock

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スパッタリングターゲット

ST0187 クロム添加一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲット

カタログ番号	ST0187
構成	SiO/Cr
CAS番号	該当なし
純度	≥99%
形状	ディスク、オーダーメイド
Diameter	2インチ、3インチ、4インチ、5インチ、6インチ、またはカスタムサイズ
Thickness	0.25インチ、0.125インチ、またはカスタム仕様
Bond Type	銅、またはカスタマイズされた

スタンフォード・アドバンスト・マテリアルズ社は、先端産業用途向けの革新的な材料の開拓に専心しています。精密エンジニアリングと厳格な品質管理への取り組みにより、すべての製品が最高水準の性能と信頼性を満たしています。

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クロムドープ一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲット説明

クロムドープ一酸化ケイ素(SiO/Cr)スパッタリングターゲットは、一酸化ケイ素(SiO)に少量のクロム(Cr)を添加した特殊なスパッタリングターゲットです。この複合ターゲットは、スパッタリング成膜プロセスで使用され、一酸化ケイ素の特性とクロムドーピングによってもたらされる特性の両方を持つ薄膜を作成します。

一酸化ケイ素にクロムを添加することで特定の特性が向上し、光学、電子工学、半導体技術などの特定の用途に有用です。

クロム添加一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲット用途

- 光学コーティング

反射防止コーティングSiO/Cr膜の屈折率を調整することで、レンズ、眼鏡、カメラフィルターなどの光学デバイスの反射を抑え、光の透過率を高めることができる。

光学フィルター：クロムのドーピングにより、特定の波長の吸収を高めることができるため、SiO/Crは赤外線や可視光線用の光学フィルターやコーティングに最適です。

- 半導体およびエレクトロニクス

コンデンサとトランジスタ：SiO/Cr膜の改善された電気伝導性と誘電特性は、半導体デバイスの絶縁層、ゲート絶縁膜、保護膜としての使用に適しています。

薄膜抵抗器：クロムの添加により、SiO/Cr膜は電子回路の抵抗薄膜として機能する。

- 磁気光学デバイス

データ記憶装置：クロムの磁気特性とSiOの光学的透明性を組み合わせることで、SiO/Cr膜は光データストレージや磁気センサーなどの磁気光学用途に適しています。

- 保護膜

ハードコーティング：クロムの添加によりSiO/Cr膜の硬度が向上するため、耐摩耗性コーティングや光学・電子部品の保護層として有用である。

耐食性：クロムを添加した一酸化ケイ素コーティングは、耐食性を向上させることができるため、工業用や過酷な環境下で有用です。

- 太陽電池および太陽光発電用途：

クロムをドープした一酸化ケイ素膜は、薄膜太陽電池のパッシベーション層や反射防止膜としても使用され、光の反射を抑え吸収を高めることで効率を向上させます。

クロムドープ一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲットパッキング

当社のクロムをドープした一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲットは、保管および輸送中も完全性と性能を維持するために細心の注意を払って梱包されています。
- 安全な配送を保証するため、カスタマイズされた梱包オプションもご利用いただけます。
- 標準的な梱包には、輸送中の汚染や損傷を防ぐための安全なシールが含まれています。

よくある質問

Q1.クロムをドープした一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲットとは何ですか？

クロム添加一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲットは、一酸化ケイ素（SiO）にクロム（Cr）を添加した複合ターゲット材料です。クロムの添加によりベース材料の特性が変化し、電気的、光学的、磁気的特性が向上するため、特殊な薄膜蒸着用途に適しています。

Q2.クロム添加一酸化ケイ素（SiO/Cr）スパッタリングターゲットの主な用途は何ですか？

クロムをドープしたSiO/Crスパッタリングターゲットは、以下のような様々な用途に使用されています：

光学コーティング：屈折率が調整できるため、反射防止コーティングや光学フィルターに使用される。

半導体デバイス：電子部品の誘電体、コンデンサー、絶縁層、ゲート絶縁膜に適している。

磁気光学用途：クロムの磁気特性により、データストレージや磁気センサーに使用される。

保護コーティング：耐摩耗性、耐食性、硬質コーティングを提供する。

薄膜太陽電池太陽電池デバイスのパッシベーション層や反射防止コーティングとして使用される。

Q3.クロムをドープした一酸化ケイ素（SiO/Cr）膜の主な利点は何ですか？

光学特性の向上：クロムをドープすることにより、膜の屈折率や吸収率を調整することができ、光学コーティングやフィルターに最適です。

電気伝導性の向上：クロムはSiO膜の導電性を向上させるため、抵抗器やコンデンサーなどの電子用途に適しています。

磁気特性：クロムの配合により磁気光学効果が付与され、磁気データストレージやセンサーに有用。

硬度と耐久性：クロムはSiO膜の耐摩耗性、硬度、耐食性を向上させ、過酷な環境下での耐久性を向上させます。

仕様

仕様	詳細
材質	クロムドープ一酸化ケイ素
記号	SiO/Cr
色/外観	灰色
融点	該当なし
密度	該当なし
スパッタ	該当なし
ボンドの種類	インジウム, エラストマー
サイズ	カスタマイズ

*注：特定の製造工程や後処理によって外観が若干異なる場合があります。

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