ルテニウムストロンチウム(SrRuO3)スパッタリングターゲット 説明
ルテニウムストロンチウム(SrRuO3)スパッタリングターゲットは、成膜システムにおいて高性能を発揮するように設計されています。厳格な品質管理の下で製造されたこのターゲットは、優れた均一性と安定性を提供し、高度なマイクロエレクトロニクスおよび研究用途向けの優れた薄膜成膜を保証します。
ルテニウムストロンチウム(SrRuO3)スパッタリングターゲット用途
- マイクロエレクトロニクス半導体デバイスの高品質薄膜の製造に最適です。
- 超電導回路:超電導層の信頼性の高い成膜を提供します。
- 薄膜コーティング安定した均一な成膜を実現します。
- 学術・産業研究実験的研究と先端材料開発を促進します。
ルテニウムストロンチウム(SrRuO3)スパッタリングターゲットの梱包
当社のスパッタリングターゲットは、保管中および輸送中に製品の完全性を維持するため、厳重に梱包されています。お客様の特定の取り扱いおよび輸送要件を満たすため、カスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: スパッタリングターゲットとは何ですか?
A: スパッタリングターゲットは、物理蒸着プロセスで使用される材料ソースで、原子を基板上に放出・堆積させて薄膜を形成します。
Q: ルテニウムストロンチウム(SrRuO3)は蒸着用途でどのような利点がありますか?
A: 高純度(99%以上)と一貫した組成により、均一なスパッタリングと安定した薄膜形成が可能です。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状に加え、特定の用途要件に合わせた特注形状も可能です。
Q: 設置前のスパッタリングターゲットの取り扱いは?
A: 汚染や物理的損傷を防ぐため、適切な工具と環境制御を使用して慎重に取り扱う必要があります。
Q: ルテニウムストロンチウム(SrRuO3)スパッタリングターゲットはどのような産業で最もよく使用されていますか?
A: マイクロエレクトロニクス、超伝導回路、薄膜コーティング、先端研究用途で広く使用されています。