酸化ツリウム(Tm2O3)スパッタリングターゲット 説明
酸化ツリウム(Tm2O3)スパッタリングターゲットは、電子および光学アプリケーションの精密薄膜成膜用に設計されています。Tm₂O₃の化学組成と99%以上の純度により、一貫した再現性のあるスパッタリング性能を保証します。このターゲットはディスクとして入手可能であり、また様々な産業要件を満たすために特定のサイズに特注することもできる。融点と密度が高いため、厳しいスパッタリング環境にも耐えることができ、高温プロセスや要求の厳しいアプリケーションに最適です。
酸化ツリウム(Tm2O3)スパッタリングターゲット用途
- マイクロエレクトロニクス半導体デバイス製造における薄膜作製に最適。
- 光学コーティング先端フォトニックデバイスの高品質光学膜の成膜に使用されます。
- エネルギー用途:電力・エネルギーデバイスの高温コーティングに適しています。
- 研究開発先端材料研究や実験的スパッタリングプロセスに使用される。
酸化ツリウム(Tm2O3)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化ツリウムスパッタリングターゲットは、保管および輸送中の材料の完全性を保つため、真空密封容器にしっかりと梱包されています。袋詰めやドラム構成などのカスタム包装オプションは、お客様の特定の要件に合わせてご利用いただけます。
よくある質問
Q: 酸化スリウムをスパッタリングターゲットに使用する主な利点は何ですか?
A: 酸化スリウムは、卓越した純度、高い熱安定性、優れた化学的耐久性を提供し、高度な薄膜蒸着アプリケーションに理想的です。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、当社の酸化ツリウムスパッタリングターゲットは、標準的なディスク形状で入手可能ですが、お客様の特定の要件に合わせてカスタムメイドすることもできます。
Q: 酸化ツリウムスパッタリングターゲットはどのような産業でよく使用されていますか?
A: 精度と材料の安定性が重要なマイクロエレクトロニクス、光学コーティング、エネルギー、研究分野で広く使用されています。
Q: 酸化ツリウムの高い融点は、スパッタリングプロセスにどのように役立ちますか?
A: 融点が高いため、スパッタリング中もターゲット材料が安定し、均一な成膜とプロセスの信頼性が向上します。
Q: スパッタリングターゲットにはどのような品質保証措置がとられていますか?
A: 当社のターゲットは、純度検証や性能試験を含む厳格な品質管理プロトコルを受けており、高度な工業用途に求められる高い基準を常に満たしています。