五酸化チタン(Ti3O5)スパッタリングターゲット 説明
五酸化チタン(Ti3O5)スパッタリングターゲットは、精密な工業用途向けに設計された高性能材料です。 厳格な品質管理のもと製造されたこのターゲットは、純度99%以上を達成し、標準ディスク形状とカスタマイズ設計の両方でご利用いただけます。高度な蒸着プロセスで安定した性能を発揮するように設計されており、優れた密着性と表面仕上げを保証します。この材料は、真空コーティング、半導体製造、および耐久性と信頼性が最優先されるさまざまな表面改質用途に最適です。
五酸化チタン(Ti3O5)スパッタリングターゲット用途
- 真空コーティング:光学、電子、装飾用途の薄膜蒸着に最適。
- 半導体製造:マイクロエレクトロニクス部品の精密な材料成膜が可能。
- 表面改質:耐久性のあるコーティングや様々な工業用具の機能的表面の製造に使用されます。
- 研究開発先端材料科学の実験およびプロトタイプ用途に高純度ターゲットを提供します。
五酸化チタン(Ti3O5)スパッタリングターゲットパッキング
当社の五酸化チタンスパッタリングターゲットは、その高純度と性能を維持するために慎重に梱包されています。梱包はお客様のご要望に応じてカスタマイズされ、通常、保管および輸送中にターゲットが最適な状態を維持できるよう、安全で湿度管理された条件が含まれます。
よくある質問
Q: 五酸化チタン(Ti3O5)スパッタリングターゲットを使用すると、どのような産業で最もメリットがありますか?
A: 半導体製造、光学、高度表面コーティングなどの産業が、この高純度スパッタリングターゲットの主な恩恵を受けています。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、標準的なディスク形状の他に、特定のアプリケーションの要件を満たすためにカスタマイズされた形状も可能です。
Q: 五酸化チタンスパッタリングターゲットの高融点にはどのような意味がありますか?
A: 高融点(~1800-1900℃)は、ターゲットが劣化することなく高温プロセスに耐えることを保証します。
Q: 99%以上の純度はスパッタリングターゲットの性能にどのような影響を与えますか?
A: 純度99%以上であれば、不純物を最小限に抑えることができるため、工業用途において安定したスパッタリング挙動と高品質の薄膜やコーティングが得られます。
Q: スパッタリングターゲットの品質を保証するために、梱包時にはどのような注意が払われますか?
A: ターゲットは、湿度管理された安全な条件下で梱包され、保管中および輸送中に材料を保護するためにカスタマイズされた梱包ソリューションが提供されます。