酸化イッテルビウム(Yb2O3)スパッタリングターゲット 説明
酸化イッテルビウム(Yb2O3)スパッタリングターゲットは、高純度と均一性を確保するために高度な製造技術を使用して設計されています。 精密蒸着プロセス用に設計されたこのターゲットは、高温条件下で優れた安定性と性能を発揮し、半導体、光学、光電池アプリケーションに最適です。形状やサイズのカスタマイズが可能で、多様な工業プロセスの特定のニーズを満たす柔軟性を提供します。
酸化イッテルビウム(Yb2O3)スパッタリングターゲット用途
- 薄膜蒸着:半導体デバイス、光学部品、光電池の高品質コーティングの製造に最適です。
- オプトエレクトロニクス:LED、レーザー、その他の高精度オプトエレクトロニクス用途のスパッタリングプロセスで利用される。
- 先端セラミックス高性能セラミックや特殊コーティングの製造において、ターゲット材料として使用される。
酸化イッテルビウム(Yb2O3)スパッタリングターゲットパッキング
当社の酸化イッテルビウム(Yb2O3)スパッタリングターゲットは、品質と完全性を維持するために細心の注意を払って梱包されています。各ターゲットは個別に包装され、耐湿性のある明確にラベル付けされた容器にしっかりと梱包されます。特殊な出荷や保管の要件に対応するため、ご要望に応じてカスタム梱包オプションもご利用いただけます。
よくある質問
Q: Yb2O3スパッタリングターゲットの純度が99%以上であることの意味は何ですか?
A: 高純度レベルは、スパッタリングプロセス中の汚染を最小限に抑え、優れた膜品質と蒸着層の性能向上を保証します。
Q: Ytterbium Oxideスパッタリングターゲットはどのような産業で使用されていますか?
A: イッテルビウム酸化物スパッタリングターゲットは、半導体、光学、太陽光発電産業、先端セラミックス、オプトエレクトロニクス用途で広く使用されています。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズを特注できますか?
A: はい、当社のスパッタリング・ターゲットはディスク状で入手可能であり、特定の設計および性能要件を満たすために特注することもできます。
Q: Yb2O3スパッタリングターゲットの製造にはどのような高度な技術が使われていますか?
A: 当社の製品は、制御された雰囲気下で最先端の焼結および機械加工プロセスを用いて製造され、高純度と優れた寸法安定性を保証しています。
Q: 酸化イッテリビウムスパッタリングターゲットの使用前の保管方法を教えてください。
A: 汚染を防ぎ、高性能を維持するために、安定した温度条件のもと、清潔で乾燥した環境で保管する必要があります。