酸化ガリウム入り酸化亜鉛 (ZnO/Ga2O3) スパッタリングターゲット商品概要
酸化ガリウム含有酸化亜鉛スパッタリングターゲットは、高性能薄膜蒸着アプリケーション用に設計されています。高度な精密制御で製造されたこのターゲットは、スパッタリングプロセス中の均一な組成と卓越した安定性を保証します。ZnOとGa₂O₃のユニークなブレンドは、強化された光学的および電子的特性を提供し、半導体、オプトエレクトロニクス、センサーアプリケーションに最適です。この製品は、現代の産業および研究環境の厳しい要求を満たすように調整されている。
酸化ガリウム含有酸化亜鉛(ZnO/Ga2O3)スパッタリングターゲット用途
- 半導体薄膜蒸着:半導体デバイスの高品質薄膜の製造に最適です。
- オプトエレクトロニクス太陽電池、LED、光検出器のコーティング用途に適しています。
- センサー高感度で信頼性の高いガスセンサーや化学センサーの製造に利用される。
- 研究開発先端材料研究やプロトタイプ開発をサポート。
- コーティング技術:デバイス性能を向上させるための様々な表面改質プロセスで採用されています。
酸化ガリウム入り酸化亜鉛(ZnO/Ga2O3)スパッタリングターゲットパッケージング
当社の酸化ガリウム含有酸化亜鉛スパッタリングターゲットは、製品の完全性を確保し、汚染を防止するために慎重に梱包されています。 製品は通常、真空密封され、保管中および輸送中の品質を維持するためにしっかりと梱包されています。お客様のご要望に応じたカスタム包装も可能です。
よくある質問
Q: スパッタリングとは何ですか?
A: スパッタリングは物理的蒸着プロセスであり、高エネルギー粒子を使用してターゲット材料から原子を放出します。その後、粒子は基板上に堆積し、薄膜を形成します。このターゲットの組成が均一であるため、薄膜の品質が一定に保たれます。
Q: ZnO/Ga₂O₃スパッタリングターゲットを使用する利点は何ですか?
A: ZnO/Ga₃Oスパッタリングターゲットは、高純度で正確な組成制御が可能で、優れた薄膜成膜を実現します。そのユニークな特性は光学的・電子的性能を向上させ、半導体やオプトエレクトロニクス用途に最適です。
Q: 製造中の純度(99%以上)はどのように維持されるのですか?
A: 製造工程では、各段階で高度な精製技術と厳格な品質管理措置を採用しています。継続的なモニタリングとテストにより、ZnO/Ga₂O₃組成の純度と一貫性を確保しています。
Q: スパッタリングターゲットの形状やサイズはカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットはディスク形状で入手可能です。また、特定の顧客要件に応じてカスタムメイドすることも可能で、さまざまなスパッタリングシステム設計に柔軟に対応できます。
Q: この製品にはどのような品質保証がありますか?
A: 当社の製造工程は、精度管理、工程内検査、最終製品テストなど、厳格な品質基準を遵守しています。これらの対策により、すべてのスパッタリングターゲットが、高度な産業および研究用途で要求される高性能基準を満たしています。