イットリアで安定化されたジルコニア(ZrO2/Y2O3)スパッタリングターゲットの説明
当社のイットリア安定化ジルコニア(ZrO₂/Y₂O₃)スパッタリングターゲットは、精密駆動産業アプリケーションにおける高効率スパッタリングプロセス用に設計されています。厳しい品質管理の下で製造されたこのターゲットは、高温条件下でも優れた安定性と性能を発揮します。ジルコニアにイットリアを配合することで、熱安定性と耐久性を高め、長寿命化を実現しています。均一で信頼性の高い材料蒸着を必要とする用途に最適なこの製品は、半導体製造、先端コーティング、材料研究の進化するニーズに応えます。
イットリア安定化ジルコニア(ZrO2/Y2O3)スパッタリングターゲット用途
- 半導体製造均一な薄膜の成膜に不可欠
- 先端コーティング耐摩耗性コーティングや熱安定性コーティングの耐久性を向上させます。
- 研究開発高温で精密な成膜研究に適しています。
- 工業用スパッタリングプロセス大規模な生産環境において信頼性の高い性能を保証します。
イットリア安定化ジルコニア(ZrO2/Y2O3)スパッタリングターゲットパッキング
当社のスパッタリングターゲットは、保管中および輸送中の品質保持を保証するために細心の注意を払って梱包されています。
- 梱包製品の完全性を維持するために真空シールされています。
- カスタムサイズ特定のアプリケーション要件に合わせてカスタマイズされたフォーマットでご利用いただけます。
よくある質問
Q: イットリアで安定化されたジルコニア・スパッタリングターゲットが高温用途に理想的な理由は何ですか?
A: ジルコニアにイットリアを統合することで構造が安定し、熱安定性が向上し、過酷な条件下でも性能を維持できるようになります。
Q: ターゲットの純度はどのようにして確保されるのですか?
A: 製造工程は厳格な品質管理措置の下で行われ、純度99%以上を達成し、重要な用途における最適な性能を保証しています。
Q: スパッタリングターゲットの形状はカスタマイズできますか?
A: はい、ターゲットは標準的なディスク形状で入手可能ですが、特定の設計や用途の要件に合わせて特注することもできます。
Q: このスパッタリングターゲットが最も恩恵を受ける産業は?
A: 半導体製造、先端コーティング技術、高温材料研究などの産業が、この製品から大きな恩恵を受けています。
Q: ジルコニア-イットリア複合材料は、純粋なジルコニアと比べてどのような利点がありますか?
A: イットリアの添加は、ジルコニア構造を安定化させるだけでなく、熱衝撃に対する耐性を向上させ、耐久性を高めるため、集中的なスパッタリング・プロセスでの信頼性を高めます。